フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性で、中性域及び／又は高塩類存在下で不溶化するフェノール系高分子化合物のアルカリ溶液を、所定濃度に希釈して原水に添加する。例文帳に追加

The alkaline solution of the phenol-based polymer, which has phenolic hydroxyl groups, is alkali-soluble, and becomes insoluble in a neutral region and/or in the presence of high salts, is diluted to a predetermined concentration and then added to the raw water. - 特許庁

アルコール性水酸基を２個以上有する多価アルコールとエピハロヒドリンを、３０〜１００℃の温度で、水酸化アルカリ水溶液及びエチレングリコールジメチルエーテルやジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系化合物の存在下で反応させてエポキシ樹脂を製造する。例文帳に追加

The epoxy resin is produced by reacting a polyol having at least two alcoholic hydroxy groups, with an epihalohydrin at 30-100°C in the presence of an alkali hydroxide aqueous solution, and an ether compound such as ethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether. - 特許庁

フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感放射線性酸発生剤（Ｂ）、架橋剤（Ｃ）、密着助剤（Ｄ）、および有機溶媒（Ｅ）を含有し、固形分濃度が７〜２５質量％であることを特徴とする絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

The radiation sensitive resin composition for forming an insulating film comprises an alkali-soluble resin (A) having a phenolic hydroxyl group, a radiation sensitive acid generator (B), a crosslinking agent (C), an adhesion assistant (D) and an organic solvent (E), and has a solid concentration of 7-25 mass%. - 特許庁

（Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。例文帳に追加

The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent. - 特許庁

支持体上に少なくとも下塗り層、600nm以上の波長域に極大分光感度を付与する増感色素を含有するハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層を順次塗布してなる平版印刷版おいて、少なくとも１つの水酸基を有する脂肪族カルボン酸またはそのアルカリ金属塩を含有する。例文帳に追加

In the planographic printing plate obtained by sequentially coating the top of a support with at least an undercoat layer, a silver halide emulsion layer containing a sensitizing dye which imparts maximum spectral sensitivity in a wavelength region of ≥600 nm and a physical developing nucleus layer, an aliphatic carboxylic acid having at least one hydroxyl group or an alkali metallic salt thereof is contained. - 特許庁

（Ａ）光酸発生剤、（Ｂ）特定構造の繰り返し単位及び（メタ）アクリル繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び（Ｃ）炭素数７〜１５の脂肪族環状炭化水素基とアルコール性水酸基とを有するアルコール化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition comprises (A) a photoacid generator, (B) a resin which has a repeating unit having a specified structure and a (meth)acrylic repeating unit and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (C) an alcohol compound having a 7-15C alicyclic hydrocarbon group and an alcoholic hydroxyl group. - 特許庁

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）水酸基を含有しない含窒素化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having the solubility with an alkali developing solution which increases by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (C) a nitrogen-containing compound having no hydroxyl group; and (D) solvent. - 特許庁

（Ａ）全フェノール性水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換されるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）例えば下記式で示す化合物とナフトキノンジアジドスルホン酸化合物とのエステル化物、および（Ｃ）感度向上剤を含有するポジ型ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains (A) an alkali- soluble novolak resin having 1,2-naphthoquinonediazidosulfonyl groups substituted for part of the hydrogen atoms of all phenolic hydroxyl groups, (B) a product by the esterification of, e.g. a compound of formula (1) with a naphthoquinonediazidosulfonic acid compound and (C) a sensitivity improver. - 特許庁

真空排気装置と撹拌装置を有する反応装置を用いてポリエーテルポリオール類とアルカリ金属アルコキシドを反応させ、前記ポリエーテルポリオール類の水酸基をメタルオキシ化する工程において、前記反応装置内の反応液粘度を直接測定することにより目標反応率への到達を判別し、前記工程を終了することを特徴とする、ポリエーテルポリオール類のメタルオキシ化方法。例文帳に追加

In a process wherein polyether polyols react with an alkali metal alkoxide to convert hydroxy groups of the polyether polyols into metaloxy groups in a reaction apparatus having vacuum evacuating and stirring devices, whether or not target reaction rate is attained is judged by direct measurement of viscosity of reaction liquid in the reaction apparatus, and then the process is terminated. - 特許庁

カルボン酸ビニルエステルとイソシアヌレート環を有する架橋性単量体との共重合体のエステル基の一部を水酸基にケン化してなるポリビニルアルコール系共重合体に、同一分子内にグリシジル基を２つ以上含有する化号物を反応させ４〜３５質量％のグリシジル基含有基を導入し、さらに３級アミンを反応させ耐アルカリ性高強度陰イオン交換体を製造すること。例文帳に追加

This alkali resistant high strength anion exchange material is produced by reacting a polyvinyl alcohol-based copolymer obtained by saponifying a part of the ester group of a copolymer having a carboxylic acid vinyl ester and an isocyanulate ring with a cross-linking monomer, to hydroxyl group, with a compound containing ≥2 glycidyl groups in the same molecule for introducing 4-35 mass % glycidyl group-containing group and further reacting with a tertiary amine. - 特許庁