かでんしすうの英語

過電圧の発生を防止することによって、過電圧保護回路の個数を減少させる。例文帳に追加

To reduce the number of overvoltage protection circuits by preventing the occurrence of overvoltages. - 特許庁

さらに、偏向電界付与手段へ印加電圧の周波数を、インク吐出手段への印加電圧周波数の整数倍とする。例文帳に追加

Moreover, a frequency of the application voltage to the deflecting electric field applying means is to be an integral multiple of an application voltage frequency to the ink discharging means. - 特許庁

荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源６と、複数の荷電粒子ビーム源６から発生された複数の荷電粒子ビームＢを試料５上に収束させるための電子光学系（２、３、４）とを備えた荷電粒子ビーム照射装置１０である。例文帳に追加

The charged particles beam irradiation device 10 is provided with the plurality of charged particle beam sources 6 in order to generate the charged particle beams, and electron optical systems (2, 3, 4) to converge the plurality of charged particle beams B onto the sample 5, which were generated from the plurality of charged particle beam sources 6. - 特許庁

選択可能な複数の粒子放出器を備える荷電粒子源例文帳に追加

CHARGED PARTICLE SOURCE WITH MULTIPLE SELECTABLE PARTICLE EMITTERS - 特許庁

また、ＰＷＭ周波数とモータ印加電圧周波数の比が整数倍付近になるモータ印加電圧周波数時にモータ印加電圧位相を微小変動させる構成とする。例文帳に追加

Also, a motor application voltage phase is varied by a minute amount at motor application voltage frequency in which the proportion between the PWM frequency to the motor application voltage frequency becomes an integral multiple. - 特許庁

荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数算出方法及び荷電粒子ビーム描画装置の位置補正係数更新方法例文帳に追加

POSITION CORRECTION COEFFICIENT CALCULATING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, AND POSITION CORRECTION COEFFICIENT UPDATING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS - 特許庁

メインコード（１）を過電流検出リレー（２）の鉄芯に数回巻く。例文帳に追加

A main cord (1) is wound around magnet cores of an overcurrent detection relay (2). - 特許庁

負荷伝達部（１４，３４）は複数の補強コード（２２，４２）を有している。例文帳に追加

The load carrying section 14, 34 has a plurality of reinforcing cords 22, 42. - 特許庁