オクタン溶液の英語

記録層を形成する色素溶液の溶媒としてシクロオクタン以外の炭素原子数が６〜９の炭化水素１種または２種以上とシクロオクタンとを混合したものを用いて記録層を形成する。例文帳に追加

The optical recording medium comprises a recording layer formed by mixing one or more types of a hydrocarbon having the number of carbon atoms of 6 to 9 except a cyclooctane with the cyclooctane as a solvent of a dye solution for forming the recording layer. - 特許庁

この燃料電池のアノードの製法においては、ペルフルオロオクタンスルホン酸を含有する溶液から電極上に金属合金を堆積させる。例文帳に追加

In the producing method of the anode of this fuel cell, a metal alloy is made to deposit on the electrode from the solution containing perfluorooctanesulfonic acid. - 特許庁

金属有機化合物を有機溶媒に溶解した溶液を気化して原料ガスを生成する工程と、気化したオクタンを原料ガスに添加してオクタン添加原料ガスを生成する工程と、オクタン添加原料ガスを成膜雰囲気に導入して基板上に金属を含む膜を成膜する工程を行う。例文帳に追加

The film formation method includes: a process for generating source gas by vaporizing a solution where a metal organic compound is dissolved in an organic solvent; a process for generating source gas to which octane is added by adding vaporized octane to the source gas; and a process for forming a film including metal on a substrate by introducing the source gas to which octane is added into a film formation atmosphere. - 特許庁

白色ワセリンを第VIII族金属触媒の存在下、170〜250℃、６〜30MPaの条件下で水素化して、275nmの紫外部吸光度（１w／v％イソオクタン溶液の値、光路長１cm）を0.25以下にする。例文帳に追加

The white vaseline is hydrogenated in the presence of a group VIII metal catalyst under conditions of 170-250°C and 6-30 MPa to have ≤0.25 ultraviolet absorbance (value of 1 w/v% isooctane solution and 1 cm optical path length) at 275 nm. - 特許庁

0.1〜200 g/L の濃度のチオエタン化合物 (例、3,6-ジチアオクタン-1,8-ジオール) を、電気錫または錫合金めっき浴中に添加するか、同濃度のチオエタン化合物の水溶液で電気錫または錫合金めっき材を処理する。例文帳に追加

A thioethane compound (e.g. 3,6-dithiaoctane-1,8-diol) of 0.1-200 g/l is added to an electrotinning or tin-alloy plating bath, or an electrotinned or tin-alloy plated material is treated with an aqueous solution of the thioethane compound in the same concentration. - 特許庁

コバルト又はコバルト化合物からなる触媒を基体１１表面に担持し、基体１１を酸化雰囲気中で８５０℃以上１１００℃以下の範囲で熱処理した後、基体１１をオクタノールとオクタンチオールとの混合溶液１５中で加熱することにより、節を有するファイバー状のナノ炭素材料１２が基体１１に生成する。例文帳に追加

A catalyst comprising cobalt or a cobalt compound is supported on the surface of a substrate 11, and the substrate 11 is heat-treated in a range of 850-1,100°C in an oxidizing atmosphere and then heated in the mixed solution 15 of octanol and octanethiol, whereby a fibrous nanocarbon material 12 with burls are generated on the substrate 11. - 特許庁

チタンベースバリアメタル層を形成する方法は、基板を準備するステップであって、基板上にＩＣ素子を形成するステップを包含する、ステップと、約５容量％のテトラキス（メチルエチルアミノ）チタニウム（ＴＭＥＡＴ）および約９５容量％のオクタンの溶液を用いてチタンベースバリアメタルプリカーサを形成するステップと、ＭＯＣＶＤによって基板上にチタンベースバリア層を堆積させるステップとを包含する。例文帳に追加

The process for forming a titanium based barrier metal layer comprises a step for preparing a substrate, a step for forming an IC element on the substrate, a step for forming a titanium based barrier metal precursor using a solution of about 5 vol% of tetrax (methyl ethyl amino) titanium (TMEAT) and about 95 vol% of octane, and a step for depositing a titanium based barrier layer on the substrate by MOCVD. - 特許庁