octane solutionとは 意味・読み方・使い方

The film formation method includes: a process for generating source gas by vaporizing a solution where a metal organic compound is dissolved in an organic solvent; a process for generating source gas to which octane is added by adding vaporized octane to the source gas; and a process for forming a film including metal on a substrate by introducing the source gas to which octane is added into a film formation atmosphere.例文帳に追加

金属有機化合物を有機溶媒に溶解した溶液を気化して原料ガスを生成する工程と、気化したオクタンを原料ガスに添加してオクタン添加原料ガスを生成する工程と、オクタン添加原料ガスを成膜雰囲気に導入して基板上に金属を含む膜を成膜する工程を行う。 - 特許庁

A raw material solution is prepared, by mixing one or more organic metal compound raw materials and one or more organic solvents selected from among a group consisting of tetrahydrofuran, methyl tetrahydrofuran, n-octane, iso-octane, hexane, cyclohexane, pyridine, lutidine, butyl acetate and aluminum acetate, and contains 10-200 ppm of water as an aditive.例文帳に追加

１種又は２種以上の有機金属化合物原料と、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ｎ-オクタン、イソオクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ピリジン、ルチジン、酢酸ブチル及び酢酸アミルからなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機溶媒とを混合してなる原料液に添加剤として水を１０〜２００ｐｐｍを含む。 - 特許庁

The raw solution material includes a raw material liquid prepared by mixing one or more raw organometallic compounds, and one or more organic solvents selected from the group consisting of tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, n-octane, iso-octane, hexane, cyclohexane, pyridine, lutidine, butyl acetate and amyl acetate, and alcohol of 0.1-1,000 ppm as an additive.例文帳に追加

１種又は２種以上の有機金属化合物原料と、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ｎ-オクタン、イソオクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ピリジン、ルチジン、酢酸ブチル及び酢酸アミルからなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機溶媒とを混合してなる原料液に添加剤としてアルコールを０．１〜１０００ｐｐｍを含む。 - 特許庁

This solution material is prepared by adding 1,500-5,000 ppm Hdpm to a mixture comprising at least one organometallic compound material and at least one organic solvent selected from among tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, n-octane, isooctane, hexane, cyclohexane, pyridine, lutidine, butyl acetate, and amyl acetate.例文帳に追加

１種又は２種以上の有機金属化合物原料と、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ｎ-オクタン、イソオクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ピリジン、ルチジン、酢酸ブチル及び酢酸アミルからなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機溶媒とを混合してなる原料液に添加剤としてＨｄｐｍを１５００〜５０００ｐｐｍを含む。 - 特許庁

The process for forming a titanium based barrier metal layer comprises a step for preparing a substrate, a step for forming an IC element on the substrate, a step for forming a titanium based barrier metal precursor using a solution of about 5 vol% of tetrax (methyl ethyl amino) titanium (TMEAT) and about 95 vol% of octane, and a step for depositing a titanium based barrier layer on the substrate by MOCVD.例文帳に追加

チタンベースバリアメタル層を形成する方法は、基板を準備するステップであって、基板上にＩＣ素子を形成するステップを包含する、ステップと、約５容量％のテトラキス（メチルエチルアミノ）チタニウム（ＴＭＥＡＴ）および約９５容量％のオクタンの溶液を用いてチタンベースバリアメタルプリカーサを形成するステップと、ＭＯＣＶＤによって基板上にチタンベースバリア層を堆積させるステップとを包含する。 - 特許庁