オブスキュレーションの英語

オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション例文帳に追加

HIGH NUMERICAL APERTURE CATADIOPTRIC OBJECTIVES WITHOUT OBSCURATION AND APPLICATIONS THEREOF - 特許庁

中心オブスキュレーションがない高開口数（ＮＡ）の反射屈折対物系、及びそのアプリケーションを開示する。例文帳に追加

To provide high numerical (NA) catadioptric objectives without a central obscuration, and applications thereof. - 特許庁

さらに、上記症候を最小化するために、上記の採取された末梢皮膚温度データの関数として、上記画像のオブスキュレーションのレベルを低減することを特徴とする注意力散漫多動症である被験者の症候を低減する。例文帳に追加

Further, the level of the obscuration of the image is reduced as the function of the sampled peripheral skin temperature data in order to minimize the sympton. - 特許庁

本発明にかかるＡＤＨＤである被験者の症候を低減する方法ないしシステムは、まず、注意力散漫多動症の症候を伴った被験者に対してあるレベルのオブスキュレーションを有する画像を表示する。例文帳に追加

In the method and system for reducing the sympton of the subject being ADHD, at first, an image having obscuration of a certain level with respect to the subject suffering from a sympton of an attentiveness diffuse hyperkinetic syndrome is displayed. - 特許庁

掩蔽（obscurated：オブスキュレーション）光学系において、分解能の限界が結像構造の位置及び配向に応じて変わる場合、結像光学系の精密測定の実行を可能にするデバイス、このデバイスを有する投影露光装置、その方法、センサユニットとを提供する。例文帳に追加

To provide a device which allows for execution of precision measurement of an optical system for image formation when the limit of resolution depends on the position and orientation of an image formation structure in an obscuration optical system, and to provide a projection exposure device having this method, its method and a sensor unit. - 特許庁

反射屈折対物系は、（１）偏光ビームスプリッタ（第一偏光放射を通過させ、第二偏光放射を反射する）を使用する、及び／又は（２）１つ又は複数の折り畳みミラーを使用して、オフアクシス放射を反射屈折対物系の瞳内へと誘導することによって、中心オブスキュレーションを解消する。例文帳に追加

The catadioptric objectives eliminate the central obscuration by (1) using a polarized beamsplitter (which passes radiation of a first polarization and reflects radiation of a second polarization), and/or (2) using one or more folding mirrors to direct off-axis radiation into the pupil of the catadioptric objective. - 特許庁