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カソードアークの英語
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英訳・英語 cathode arc
「カソードアーク」を含む例文一覧
該当件数 : 14件
カソードアークイオン成膜装置例文帳に追加
CATHODE ARC ION FILM FORMING DEVICE - 特許庁
カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、TiAlN膜を2〜7μm形成した膜構造。例文帳に追加
A TiAlN film is formed in 2-7 μm thickness on a nitride film formed by cathode arc type ion plating. - 特許庁
また、カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、ゾル・ゲル法で5μm以下の酸化珪素膜を形成した膜構造。例文帳に追加
A silicon oxide film of ≤5 μm thickness is formed by a sol-gel process on a nitride film formed by cathode arc type ion plating. - 特許庁
より安定なプラズマ状態を形成することができ、プラズマ状態の制御性に優れたカソードアークイオン成膜装置の提供。例文帳に追加
To provide a cathode arc ion film forming device that forms a stabler plasma state and that excels in controllability of the plasma state. - 特許庁
カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に酸化膜を1〜20μm形成した膜構造。例文帳に追加
An oxide film is formed by electron beam type ion plating or sputtering in 1-20 μm thickness on a nitride film formed by cathode arc type ion plating. - 特許庁
カソードアーク・コーティングおよび熱間静水圧圧縮成形処理を用いたクラックの修繕方法を提供する。例文帳に追加
To provide a crack repairing method using cathode arc coating and a hot type compression molding process with hydrostatic pressure. - 特許庁
カソードアーク式イオンプレーティング法による窒化膜の表面欠陥であるピンホール数を減少させて、耐溶出性を強化した膜構造を提供する。例文帳に追加
To reduce the number of pinholes as surface defects in a nitride film formed by cathode arc type ion plating and to obtain a film structure having enhanced leaching resistances. - 特許庁
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「カソードアーク」を含む例文一覧
該当件数 : 14件
第1層のCrN膜は、窒素ガス圧を20〜50mTorr、バイアス電圧を0Vとするカソードアークイオンプレーティング法によって形成される。例文帳に追加
The CrN film as the 1st layer is formed by a cathode arc ion plating method in which the pressure of gaseous nitrogen is controlled to 20 to 50 mTorr, and bias voltage is controlled to 0 V. - 特許庁
カソードアーク式イオンプレーテイング法による窒化膜の高温環境下で発生する酸化鉄の発生を抑え、耐熱性と耐摩耗性を強化した膜構造を提供する。例文帳に追加
To suppress the generation of iron oxide on a nitride film formed by cathode arc type ion plating in a hot environment and to obtain a film structure having enhanced heat and wear resistances. - 特許庁
また、カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、厚さ2〜20μmのMgO、Al_2O_3、または、ZrO_2からなる酸化膜を形成し、更にその上にTiAlN膜を2〜7μm形成した膜構造。例文帳に追加
An oxide film of 2-20 μm thickness comprising MgO, Al2O3 or ZrO2 is formed on a nitride film formed by cathode arc type ion plating and a TiAlN film is further formed in 2-7 μm thickness on the oxide film. - 特許庁
また、カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、酸化膜を1〜10μm形成し、更にその上にゾル・ゲル法で5μm以下の酸化珪素膜を形成した膜構造。例文帳に追加
An oxide film is formed by electron beam type ion plating or sputtering in 1-10 μm thickness on a nitride film formed by cathode arc type ion plating and a silicon oxide film of ≤5 μm thickness is further formed by a sol-gel process on the oxide film. - 特許庁
また、カソードアーク式イオンプレーティング法で形成した窒化膜上に、厚さ2〜20μmのMgO、Al_2O_3、または、ZrO_2からなる酸化膜を形成し、更にその上に、TiAlN膜を2〜5μm形成し、更にその上にゾル・ゲル法でシリケート膜を形成した膜構造。例文帳に追加
An oxide film of 2-20 μm thickness comprising MgO, Al2O3 or ZrO2 is formed on a nitride film formed by cathode arc type ion plating, a TiAlN film is further formed in 2-5 μm thickness on the oxide film and a silicate film is further formed on the TiAlN film by a sol-gel process. - 特許庁
金属部品(13)のクラック修繕方法であって、このクラック修繕方法は、クラック(15)を有する金属部品(13)を提供し、クラック(15)を洗浄して酸化物層を除去し、カソードアーク蒸着および低圧プラズマ溶射の少なくとも一方によって修繕合金(17)を施してクラック(15)を覆い、クラック(15)を塞ぐのに十分な温度および圧力で部品(13)を加熱することを含む。例文帳に追加
The crack repairing method for metal parts 13 having cracks 15, whereby the crack is washed and oxide layer is removed, and a repairing alloy 17 is applied by at least either of the cathode arc evaporation process and low-pressure plasma metallization so as to cover the crack 15, and the work 13 is heated at a temperature and with pressure enough to block the crack 15. - 特許庁
被覆されたタービンエンジン100構成要素は、タービンエンジン構成要素102、104、106、108、110、112と、電子ビーム物理蒸着又はイオンプラズマカソードアーク蒸着を用いてタービンエンジン構成要素102、104、106、108、110、112の表面の少なくとも一部分上に配置された耐浸食性コーティングとを含んでいる。例文帳に追加
The coated turbine engine 100 components include the turbine engine components 102, 104, 106, 108, 110, 112, and the erosion resistant coatings arranged on at least a portion on the surface of the turbine engine components 102, 104, 106, 108, 110, 112 by using electron beam physical vapor deposition or ion plasma cathode arc vapor deposition. - 特許庁
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