トリアゾ水素酸の英語

研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。例文帳に追加

The polishing composition contains abrasive grain such as colloidal silica, acid such as citric acid and orthophosphoric acid, an oxidizing agent such as hydrogen peroxide, a compound selected from azoles and its derivatives such as benzotriazole. - 特許庁

炭素数が１０以下の炭素、水素、酸素及び水酸基を含む水溶性有機化合物とイットリアゾル液との混合物を、基材に塗布して焼成することを特徴とするイットリア薄膜の製造方法。例文帳に追加

This method comprises the steps of coating a mixture of a water-soluble organic compound comprising carbon, hydrogen, oxygen and hydroxyl group where the number of carbon atoms is 10 or below with a yttria sol onto a substrate, and firing the coating. - 特許庁

（Ａ）有機樹脂微粒子、（Ｂ）アミノ酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾール、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）アミンオキシド、 （Ｆ）過酸化水素、及び、（Ｇ）水を含有する研磨用組成物を用いる。例文帳に追加

The polishing composition is used containing (A) an organic resin particulate, (B) an amino acid, (C) a benzotriazol, (D) a surfactant, (E) an amine oxide, (F) a hydrogen peroxide, and (G) a polishing composition containing water. - 特許庁

（Ａ）研磨材、（Ｂ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素、（Ｅ）ポリビニルアルコール及び（Ｆ）水からなり、研磨材が、平均粒径５〜５００ｎｍの範囲にある有機高分子化合物からなる研磨用組成物である。例文帳に追加

The composition for abrasive comprises (A) a grinding agent comprising an organic polymer with 5-500 nm of average particle size, (B) benzotriazole or its derivative, (C) an organic acid, (D) hydrogen peroxide, (E) polyvinyl alcohol and (F) water. - 特許庁

過酸化水素、硝酸等の無機酸、ハロゲンイオン、およびトリアゾールを含有する第一処理液で処理した後、過酸化水素、無機酸を含有する第二処理液で処理し、さらに、シラン化合物を含有する第三処理液で処理する配線基板の処理方法。例文帳に追加

The method for treating the wiring board includes: treating the surface of the substrate with the first treatment liquid which contains hydrogen peroxide, an inorganic acid such as nitric acid, a halogenous ion and triazole; then treating the surface of the substrate with the second treatment liquid which contains hydrogen peroxide and an inorganic acid; and further treating the surface of the substrate with the third treatment liquid which contains a silane compound. - 特許庁

本発明は、２β−ブロモメチル−２α−メチルペナム−３α−カルボン酸ジフェニルメチルエステル（ＢＭＰＢ）と１，２，３−トリアゾールとを、ハロゲン化炭化水素中、−５℃以下で反応させる。例文帳に追加

2β-bromomethyl-2α-methyl penam-3α-carboxylic acid diphenyl methyl ester (BMPB) is reacted with 1,2,3-triazole in a halogenated hydrocarbon at ≤-5°C. - 特許庁

研磨材として一次粒子の平均粒径が３０ｎｍであるコロイダルシリカ、シュウ酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、シュウ酸アンモニウムを０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。例文帳に追加

The polishing composition with 30 nm average diameter as a primary particle is obtained by mixing colloidal silica, oxalic acid, hydrogen peroxide, benzotriazole and ammonium oxalate with ion exchange water filtered with a 0.5 μm cartridge filter, agitated by a high-speed homogenizer, and uniformly dispersed to obtain the polishing composition. - 特許庁

硫酸６０〜２２０ｇ／Ｌ、過酸化水素５〜７０ｇ／Ｌ及び水を含む銅のエッチング液であって、フェニルテトラゾール類を０．０１〜０．７ｇ／Ｌ、及びニトロベンゾトリアゾール類を０．０１〜１．５ｇ／Ｌ含み、更にベンゼンスルホン酸類、塩化物イオンを含むエッチング液。例文帳に追加

Disclosed is an etching liquid for copper comprising: sulfuric acid of 60 to 220 g/L; hydrogen peroxide of 5 to 70 g/L; and water, and comprising: phenyl tetrazoles of 0.01 to 0.7 g/L; and nitro benzotriazoles of 0.01 to 1.5 g/L, and further comprising: benzenesulfonic acids; and chloride ions. - 特許庁