パターン設計システムの英語

半導体マスクパターン編集用のＣＡＤシステム、これを用いた設計方法及びその記録媒体例文帳に追加

CAD SYSTEM FOR EDITING SEMICONDUCTOR MASK PATTERN, DESIGNING METHOD USING THE SAME AND RECORDING MEDIUM THEREFOR - 特許庁

回路パターンの設計方法、露光方法及び荷電粒子ビーム露光システム例文帳に追加

METHOD FOR DESIGNING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR EXPOSING AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

通信システムにおけるランダムホッピングパターンを効率的に設計するための技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique for efficiently designing random hopping patterns in a communications system. - 特許庁

ＣＡＤシステムにアレイ基板の回路パターンの回路設計データを入力する。例文帳に追加

Circuit design data of a circuit pattern of an array substrate is inputted into a CAD system. - 特許庁

半導体装置の設計方法、半導体装置の検査パターンの生成方法、半導体装置の検査方法および半導体装置の設計システム、例文帳に追加

METHOD FOR DESIGNING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING CHECK PATTERN OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR CHECKING THE SEMICONDUCTOR DEVICE AND SYSTEM FOR DESIGNING THE SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

このシステムは、構成可能な設計要素として用いることができるパターンのデータストアにアクセスし、コンピューティングシステムのコンポーネントをパターンにマッピングするマッチングエンジンを備える。例文帳に追加

The system comprises a matching engine that accesses a data store of patterns that can be used as composable design elements to map components of the computing system to a pattern. - 特許庁

半導体設計パターンの微細化に伴い今後重要となる高精度かつ詳細なＯＰＣ評価が可能とした測長ＳＥＭシステム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide an SEM system for length measurement capable of high-accuracy and precise OPC (optical proximity correction) evaluation which is important from now on with advancement in a finer semiconductor design pattern, and to provide an evaluation system for a circuit pattern feature and a method therefor. - 特許庁

段差を有する基板上のパターンと直交するレジストパターンを形成する場合に、設計寸法により近いレジストパターンを形成可能なリソグラフィ補正システムを提供する。例文帳に追加

To provide a lithography correcting system which forms a resist pattern nearer to design dimensions for forming the resist pattern crossing perpendicularly to a pattern on a substrate having steps. - 特許庁