プラズマ蒸着窒化けい素の英語

蒸発源３において形成されたチタンの蒸発粒子は、アルゴン又はアルゴン及び窒素の混合ガスのプラズマによってイオン化され、負のバイアス電位が印加された基板の表面に蒸着される。例文帳に追加

The evaporated titanium particles formed in the evaporation source 3 are ionized by a plasma of argon or an argon-nitrogen mixture, and then are deposited on surfaces of the substrates to which a negative bias potential is applied. - 特許庁

被処理材の表面に硬質窒化炭素膜を形成するための方法であって、処理室内において、窒素ガス又はアンモニアガスを導入しながら、原料炭素類をホローカソード放電を利用して加熱、昇華させ、それと同時に被処理材の表面近傍にマイクロ波プラズマ放電を誘起して窒素及び炭素を活性化し、前記被処理材の表面に硬質窒化炭素膜を蒸着形成することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for depositing a hard carbon nitride film on the surface of a work, raw carbon materials are heated and sublimed by utilizing hollow cathode discharge while introducing gaseous nitrogen or ammonium gas, and nitrogen and carbon are activated by inducing microwave plasma discharge in a vicinity of the surface of the work at the same time, and the hard carbon nitride film is vapor-deposited on the surface of the work. - 特許庁

真空の炉体２内でターゲット８（蒸着原料）をプラズマ化させ、試料４の表面に膜を形成する薄膜の成膜装置１で、試料４の表面に窒素ガス（不活性ガス）を供給するガス供給装置６を備える。例文帳に追加

Regarding the thin film deposition system 1 where a target 8 (vapor deposition raw material) is made into plasma in a vacuum furnace body 2, and a film is deposited on the surface of each sample 4, a gas feeding apparatus 6 for feeding nitrogen (inert gas) to the surface of each sample 4 is provided. - 特許庁

焼結されたセラミックスからなる下地材１１の摺動面となる端面１１ａに、下地ディンプル１１ａを加工し、アモルファスカーボン、ダイヤモンドライクカーボン、炭化珪素、炭化チタン、窒化チタン、炭窒化チタン、窒化珪素等の硬質材料をプラズマＣＶＤ又はＰＶＤにより蒸着して成膜する。例文帳に追加

Substrate dimples 11a are formed on an edge face forming the sliding face of a substrate material 11 made of a sintered ceramic material and covered with a film of a hard material such as amorphous carbon, diamond- like carbon, titanium carbide, titanium nitride, titanium carbonitride and silicon nitride evaporated by plasma CVD or PVD process. - 特許庁