ミクロ回路の英語

８０ミクロンピッチ以下の超微細回路パターンを高収率で得られる２層型プリント回路用基板の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a two-layer printed circuit board which is capable of obtaining a hyperfine circuit pattern arranged at a pitch of 80 μm or below with high yield. - 特許庁

サブミクロンＣＭＯＳ集積回路とデプレッションＭＯＳ基準電圧回路とを搭載した半導体集積回路装置において、デプレッションＭＯＳ基準電圧回路の出力電圧のばらつきを小さくすること。例文帳に追加

To reduce variance in the output voltage of a depletion MOS reference voltage circuit in a semiconductor integrated circuit device mounted with a submicron CMOS integrated circuit and the depletion MOS reference voltage circuit. - 特許庁

ミクロクロストーク検出回路２０２によって、隣接する３つの表示セルにおけるデータ電極の電圧と仮想電極の電位とから、表示セル単位のミクロクロストーク量を検出する。例文帳に追加

In this plasma addressed display device, an amount of crosstalk of a display cell unit is detected from voltages of data electrodes and potentials of virtual electrodes of adjacent three display cells by a micro crosstalk detecting circuit 202. - 特許庁

この方法およびシステムは、ミクロ電気デバイス、集積ミクロ電子回路、セラミック基板を基礎にしたデバイス、フラットパネルディスプレイ、または他のデバイスのようなデバイスの製造に有用である。例文帳に追加

The methods and systems are particularly useful for the fabrication of devices such as microelectronic devices, integrated microelectronic circuits, ceramic substrate-based devices, flat panel displays or other devices. - 特許庁

本発明は、サブミクロン集積回路を設計するための改善された方法および装置を有利に提供する。例文帳に追加

The present invention beneficially provides an improved method and apparatus for designing submicron integrated circuits. - 特許庁

０．１８ミクロン未満のパターンサイズを有する、半導体集積回路の形成に有効な乾式オートリソグラフィ技術を提供する。例文帳に追加

To provide a dry autolithography technique effective to form a semiconductor integrated circuit having a pattern size of <0.18 μm. - 特許庁

本発明は、サブミクロンＣＭＯＳ技術装置および回路に特に適しているが、これらに限定されるものではない。例文帳に追加

The method is particularly suitable for submicron CMOS technical device and circuit, but not limited only to them. - 特許庁

点検が容易となる冷却用ミクロ回路をブレード外側エアシールに製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a cooling micro-circuit easy in an inspection in a blade outside air seal. - 特許庁