メチルスルホン酸の英語

排水中のジメチルスルホキシドを微生物処理によりジメチルスルホンに酸化分解する。例文帳に追加

To oxidatively decompose dimethyl sulfoxide in waste water into dimethyl sulfone by a biological treatment. - 特許庁

メッキ特性に影響する不純物には、ジメチルジスルフィド、メタンチオスルホン酸Ｓ−メチル、α−クロロジメチルスルホンなどがある。例文帳に追加

Examples of impurities that affect plating characteristics include dimethyl disulfide, methane thiosulfonic acid S-methyl and α-chlorodimethyl sulfone. - 特許庁

基板１０１上に、ポリ（ビニルジ（アダマントキシメチルスルホンアミド）(30mol%)−ビニルスルホンアミド（70mol%））からなるベースポリマーと酸発生剤とを含むレジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。例文帳に追加

A resist film 102 is formed on a substrate 101 from the resist material containing a base polymer comprising poly(vinyldi(adamantoxymethylsulfonamide) (30 mol%)-vinylsulfonamide (70 mol%)) and an acid generator. - 特許庁

ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）含有排水を有効に生物処理するための前処理として、ＤＭＳＯを効率的にＤＭＳＯ_2（ジメチルスルホン）まで酸化する方法、及びこのようなＤＭＳＯ含有排水の酸化・生物処理を効率的に行うための処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently oxidizing DMSO (dimethyl sulfoxide) to DMSO2 (dimethyl sulfone) as pretreatment for biologically treating DMSO-containing waste water effectively, and a treatment apparatus for efficiently performing oxidation biological treatment of DMSO-containing waste water. - 特許庁

四級化ポリビニルイミダゾール及びポリジアリルアンモニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の高分子化合物、並びにニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、グリシン、スルファミン酸、アミノメチルスルホン酸、タウリン及びこれらの塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物を含有する水溶液からなる無電解めっきの前処理用組成物。例文帳に追加

The composition for treatment prior to electroless plating consists of an aqueous solution comprising at least one kind of high polymer compound selected from the group consisting of quaternarized polyvinyl imidazole and polydiallyammonium salt, and at least one kind of compound selected from the group consisting of nitrilotriacetic acid, nitrilotri propionic acid, glycine, sulphamic acid, aminomethyl sulfonic acid, taurine and their salts. - 特許庁

（Ａ）ヒドロキシル基含有スチレン単位５０〜８５モル％、スチレン単位１５〜３５モル％及び酸により脱離可能な溶解抑制基をもつアクリル酸若しくはメタクリル酸エステル単位２〜２０モル％からなる共重合体樹脂成分、（Ｂ）フルオロメチルスルホン酸イオンをアニオンとして含むオニウム塩からなる光酸発生剤及び（Ｃ）第三級アルカノールアミンを含有した化学増幅型ポジ型レジスト組成物とする。例文帳に追加

The chemically amplified positive resist composition comprises (A) a copolymer resin component comprising 50-85 mol% hydroxyl-containing styrene units, 15-35 mol% styrene units and 2-20 mol% acrylic or methacrylic ester units having a dissolution inhibiting group which can be released by an acid, (B) a photoacid generator comprising an onium salt containing a fluoromethylsulfonate ion as an anion and (C) a tertiary alkanolamine. - 特許庁