レチクルホルダの英語

したがって、露光用の照明光ＩＬを清掃用レチクルＲＣに照射するだけで、レチクルホルダ上面に異物、汚染物質などが付着していてもそれらの物質は、分解され、除去される。例文帳に追加

In this way, only by irradiating the cleaning reticle RC with the illumination light IL for exposure, substances such as foreign matters or contamination substances adhering on the upper surfaces of the reticle holders can be decomposed and eliminated. - 特許庁

マーク基板ホルダ１０１が、レチクルホルダ１０３と同様の構造により、静電チャックによりマーク基板の裏面全体を吸着するので、マーク基板の自重たわみの影響は十分に低減することが可能である。例文帳に追加

A mark substrate holder 101 absorbs the whole rear surface of the mark substrate by an electrostatic chuck, with the structure same as that of a reticle holder 103 to fully reduce an influence of a deflection by own weight of the mark substrate. - 特許庁

（ｂ）に示すように、レチクルホルダ３には、露光転写すべきパターンが形成されたパターン領域７を持つレチクル６を吸着するための、チャック部４が搭載されている。例文帳に追加

As shown in (b), a chuck 4 for sucking a reticle 6 having a pattern region 7 having a pattern to be exposed and transferred formed thereon is mounted on the reticle holder 3. - 特許庁

清掃用レチクルＲＣに設けられたグレーティング５３Ａ，５３Ｂ及び反射面５４Ａ，５４Ｂにより、レチクルホルダ３４Ａ，３４Ｂの上面（レチクル載置面）に照明光ＩＬが導かれ、その上面が光洗浄される。例文帳に追加

Illumination light IL is guided to upper surfaces (reticle placing surfaces) of reticle holders 34A, 34B by gratings 53A, 53B provided on a cleaning reticle RC and reflection surfaces 54A, 54B, and the upper surfaces are optically cleaned. - 特許庁

そのパターン面にフレーム７６を介してペリクル７５が装着されたレチクルＲがレチクルホルダ１４により保持された状態で、そのレチクルＲのパターン面とフレーム７６とペリクル７５とで囲まれた保護空間ＰＳ内に所定のガス、例えば窒素又は希ガス等の低吸収性ガスを給気管６６を介して供給するガス供給系を備えている。例文帳に追加

An aligner is provided with a gas-supplying system, which supplies a prescribed low-absorptivity gas, such as the nitrogen, rare gas, etc., to a protective space PS, surrounded by the patterned surface of a reticle R carrying a pellicle 75 fitted to the patterned surface via a frame 76 and the pellicle 75 while the reticle R is held by a reticle holder 14. - 特許庁