二次形成層の英語

多孔性絶縁層形成用組成物、リチウムイオン二次電池用正極、リチウムイオン二次電池用負極、およびリチウムイオン二次電池例文帳に追加

COMPOSITION FOR POROUS INSULATING LAYER FORMATION, POSITIVE ELECTRODE FOR LITHIUM-ION SECONDARY BATTERY, NEGATIVE ELECTRODE FOR LITHIUM ION SECONDARY BATTERY, AND LITHIUM-ION SECONDARY BATTERY - 特許庁

次に、二次孔あけ用ドリル２ｂの使用により、積層板１における前記一次孔３の形成位置に上記貫通孔４が形成される。例文帳に追加

Then the via hole 4 is formed at the formation position of the primary hole 3 in the laminate sheet 1 by the use of a drill 2b for secondary boring. - 特許庁

そして、電子走行層１９における電子供給層１７側に、二次元電子ガスが形成される。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas is formed on the electron supply layer 17 side in the electron transit layer 19. - 特許庁

塗工方法、表層膜形成装置、表層膜、並びに非水電解液二次電池例文帳に追加

COATING METHOD, OVERLAY FILM FORMING DEVICE, OVERLAY FILM, AND NONAQUEOUS ELECTROLYTE SECONDARY BATTERY - 特許庁

第１のメタル層１３に一次側の下側のコイル部を形成し、第２のメタル層１４に二次側のコイル部を形成し、第３のメタル層１５に一次側の上側のコイル部を形成する。例文帳に追加

A lower coil part of a primary side is formed on a first metal layer 13, a coil part of a secondary side is formed on a second metal layer 14, and an upper coil part of the primary side is formed on a third metal layer 15. - 特許庁

半導体装置１ａは、半導体チップ２において、第１の二次配線未形成領域の絶縁層が、第１の二次配線形成領域の絶縁層よりも薄く形成される。例文帳に追加

In the semiconductor chip 2 in the semiconductor device 1a, an insulating layer in a region where a first secondary interconnect is not formed is formed thinner than an insulating layer in a region where a first secondary interconnect is formed. - 特許庁

導電層１は、好ましくは、III族窒化物層を積層し、積層面に二次元電子ガス層を形成させる態様によって構成される。例文帳に追加

Preferably, the conductive layer 1 be composed of a lamination of group III nitride layers with a two-dimensional electronic gas layer formed on a lamination surface. - 特許庁

基材１上に、第一電極層２と第一有機ＥＬ層を順次形成し、一方で支持体８上に、第二電極層６と第二有機ＥＬ層を順次形成する。例文帳に追加

A first electrode layer 2 and a first organic EL layer are formed in turn on a substrate 1, and on the other hand, a second electrode layer 6 and a second EL layer are formed in turn on a support body 8. - 特許庁