回転プラズマの英語

回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置例文帳に追加

PLASMA TREATMENT METHOD WITH THE USE OF ROTATING ELECTRODE, AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

回転電磁界により、面内分布の均一性が良いプラズマを生成する。例文帳に追加

To form plasma good in evenness of in-plane distribution by a rotating electromagnetic field. - 特許庁

回転電極を用いるプラズマ処理装置において、プラズマ生成領域付近に反応ガスを効率的に閉じ込めることを可能とする。例文帳に追加

To efficiently enclose a reaction gas near a plasma generating region in a plasma treatment apparatus with using a rotary electrode. - 特許庁

回転電極を用いたプラズマ処理において、プラズマ処理終了後にチャンバ内に残存する反応ガスを低減することができる。例文帳に追加

To reduce a reaction gas remaining in a chamber, after ending a plasma processing using a rotary electrode. - 特許庁

この場合、プラズマアークの長さを９ｍｍ以下、プラズマアークの回転幅を４ｍｍ以上１０ｍｍ以下となるように設定する。例文帳に追加

In this case, a length of the plasma arc is set to ≤9 mm and a rotation width of the plasma arc to ≤10 mm. - 特許庁

回転磁場単独でプラズマを高効率で生成でき、且つ、小型である定常プラズマ生成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stationary plasma generation device which can generate plasma with a rotating magnetic field alone with high precision, and is compact. - 特許庁

プラズマ発生室２３には、プラズマ発生室２３を回転させるための駆動手段２５が設けられている。例文帳に追加

The plasma generating chamber 23 is provided with a drive means 25 for rotating the plasma generating chamber 23. - 特許庁

内部にプラズマが形成される処理室と、前記プラズマに面して軸周りに回転する回転体と、前記軸の軸受部の前記プラズマに面する側に配置され、前記軸受部の軸受面と軸との間の隙間より大きくされた段差を有する空間とを備えたプラズマ処理装置。例文帳に追加

The plasma processing apparatus comprises a processing chamber in which plasma is formed, a rotating body which is rotated around a shaft facing the plasma, and a space which is arranged on the side facing the plasma of a bearing part of the shaft, and has a step larger than a space between a bearing surface of the bearing part and the shaft. - 特許庁