大電流ビームの英語

入射するイオンビーム電流の大きさを提供するイオン打ち込み装置用ビームストップであって、イオンビームの最適化に使用されることが可能なビームストップを提供する。例文帳に追加

To provide a beam stop for ion implantation apparatus for comprehending a magnitude of an incident ion beam current, which can be used in an optimization of ion beam. - 特許庁

幅が広く、ビーム電流が大きく、かつ幅方向におけるビーム電流分布の均一性の良いイオンビームを発生させることができ、しかもカソードの寿命を長くすることができるイオン源を提供する。例文帳に追加

To provide an ion source capable of generating ion beams with wide width, large beam current, and excellent uniformity of beam current distribution in width direction, and capable of prolonging a lifetime of the cathode. - 特許庁

大電流イオン注入装置におけるイオンビーム電流計測装置４のイオンビームと近接する面４Ｂの形状をＲ形に構成し、イオンビームと接触する面積を低減する。例文帳に追加

In large-current ion implantation equipment, the shape of a surface 4B of the ion beam current measuring apparatus 4, the surface of which is adjacent to an ion beam, is made a round, and area which is in contact with the ion beam is reduced. - 特許庁

長時間にわたって大電流のイオンビームをイオン源から放出させることができるガス流量設定方法およびイオンビーム加工装置を提供する。例文帳に追加

To emit ion beam of high current from an ion source for a long period. - 特許庁

均一な電流密度を有する大口径の電子ビームを放出することができる簡単な構造の電子ビーム源を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam source capable of emitting a large diameter electron beam with homogeneous current density, with a simple structure. - 特許庁

試料に照射するイオンビーム電流量を増大させ、試料加工のスループットが高い集束イオンビーム装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a focused ion beam device which exhibits high throughput of sample processing by increasing the amount of ion beam used for irradiating a sample. - 特許庁

ビームランディング位置補正電流はインダクタンスの大きい方から流れる。例文帳に追加

A current for adjusting the beam landing place flows from a bigger one of the inductance. - 特許庁

本発明は、イオンビーム電流密度１０ｍＡ／ｃｍ^2 以上、イオンビームの均一性±３％以内、イオンビーム電流密度の再現性（経時変化）±１％以内で、有効径の大きいイオンビームを発生するイオン源を提供する。例文帳に追加

To provide an ion source that generates an ion beam having a large effective diameter with an ion beam current density of 10 mA/cm2 or more, an ion beam uniformity of ±3% or less and a reproducibility (change with the passage of time) of ion beam current density of ±1% or less. - 特許庁