昇華核の英語

第１のガス供給系は固体昇華法を用いて結晶核原料ガスを生成し、第２のガス供給系は溶液気化法を用いて薄膜原料ガスを生成する。例文帳に追加

The first gas supply system generates a crystal nucleus material gas using a solid state sublimation method and the second gas supply system generates a thin film material gas using a solution vaporization method. - 特許庁

ＬＣＤ製造ラインなどの昇華物による汚染を低減し、製品歩留まり向上を図ることを目的とした２核体成分の少ないフォトレジスト用フェノ−ル樹脂を提供する。例文帳に追加

To provide a novolak type phenolic resin for a photoresist having a low content of a binuclear component for suppressing the contamination of an LCD production line, etc., with a sublimate and enhancing product yield. - 特許庁

２核体成分の少ないフォトレジスト用フェノール樹脂及びその製造方法を提供すること、及び昇華物が少なく、膜ベリ率が小さく、感度及び耐熱性が良好なフォトレジスト用樹脂組成物を提供することにある。例文帳に追加

To provide a phenolic resin for photoresists containing only a small amount of the di-nuclear molecule component, its manufacturing process and a resin composition for photoresist containing only a small amount of sublimates, having a low ratio of film thickness reduction and excellent in sensitivity and heat resistance. - 特許庁

未反応フェノール類や２核体成分などの低核体成分の含有量が少ないノボラック型フェノール樹脂を、効率的かつ簡易に製造することができる製造方法、及び得られたノボラック型フェノール樹脂を用いることにより、昇華物による生産ラインの汚染を低減し、生産性を向上させることができるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物を提供するものである。例文帳に追加

To provide an efficient and simple method for production of a novolak type phenol resin including reduced amounts of unreacting phenols and oligomeric components such as dinucleic components and to provide a phenol resin composition for photoresist that can reduce the contamination of the production line due to sublimed substance and improve the productivity by using the obtained novolak type phenol resin. - 特許庁