直流グロー放電の英語

直流グロー放電法による陽イオンビームの抽出と照射の応用装置例文帳に追加

SYSTEM APPLIED WITH EXTRACTION AND IRRADIATION OF CATIONIC BEAM BY DIRECT CURRENT GLOW DISCHARGE - 特許庁

シクロオレフィン系フィルムの表面に対してプラズマ放電処理を施したものであって、具体的には、プラズマ放電処理は公知の方法で構わないが、特に放電ガスを酸素ガスとした直流グロー放電とし、またその際のプラズマ放電の強度を５０Ｗ／ｍ^2以上１５００Ｗ／ｍ^2としたプラズマ放電処理を施したシクロオレフィン系フィルムとした。例文帳に追加

The surface of cycloolefin films are treated by plasma discharge treatment, which may be a known method, particularly with an oxygen gas as a discharge gas and direct-current glow discharge, and plasma discharge potential of 50-1,500 W/m^2. - 特許庁

本発明は、直流グロー放電により得た準安定状態のヘリウムを利用して、放電部から離隔した空間にドーパントガス、ペニングガスを電離させ、そのプラズマを利用して、測定成分のイオン化効率を向上させることにより、大きなイオン電流を得る。例文帳に追加

Dopant gas and Penning gas are ionized in a space isolated from a discharge part, using metastable helium obtained by direct-current glow discharge, and the ionization efficiency of the measuring components is enhanced using a plasma thereof to obtain an intensified ion current. - 特許庁

メタルハライドランプＤＬに電圧を印加する降圧チョッパー４の出力を放電ランプのグローアーク転移に必要な電圧の約１００Ｖ程度の直流電圧に間欠的にランプをグロー放電させるのに必要な数１００Ｖのパルス電圧を印加した波形となるように制御回路６によって昇圧チョッパー３、降圧チョッパー４の制御を行なう。例文帳に追加

A boosting chopper 3 and a step-down chopper 4 are controlled by a control circuit 6 so that the output of the step-down chopper 4 for impressing voltage on a metal halide lamp DL becomes a waveform by impressing pulse voltage of several 100 V required for intermittently performing glow discharge on the lamp by DC voltage of about 100 V of voltage required for shifting a glow arc of the discharge lamp. - 特許庁

この導電性のターゲット（５０Ω／□）を酸素を含むアルゴン雰囲気で直流スパッタリングをすると、安定して持続するグロー放電が得られ、酸化錫と酸化ビスマスの混合物からなる電気絶縁性の酸化物被膜が得られた。例文帳に追加

When this electrically conductive target (50Ω/(square)) is subjected to d.c. sputtering in an argon atmosphere contg. oxygen, stably maintaining glow discharge can be obtd., and an electrically insulating oxide coating film 3 composed of a mixture of tin oxide and bismuth oxide can be obtd. - 特許庁

各電極において、第１の電極３と第３の電極１１の間にグロー放電を生成する高周波電力を供給することによってグロープラズマの生成及び維持を行い、第２の電極４と第３の電極１１の間に直流のバイアス電圧を印加することによって、第１の電極と第２の電極との間に配置した絶縁物バルク試料Ｓのスパッタリングを行う。例文帳に追加

In the respective electrodes, glow plasma is formed and kept by supplying high frequency power forming glow discharge between the first and third electrodes 3, 11 and the sputtering of the insulating object bulk sample S arranged between the first and second electrodes is performed by applying DC bias voltage across the second and third electrodes 4, 11. - 特許庁

表面にハイドロジェン変性シリコーンが塗布された基材を、互いに対向する電極間に配置し、大気圧雰囲気下において前記電極間に高周波電力又は直流電力を印加して発生させたグロー放電プラズマにより前記基材表面におけるハイドロジェン変性シリコーンを分解し、前記基材上に酸化シリコン膜を形成する。例文帳に追加

This production method includes: arranging a substrate having hydrogen-modified silicone applied on the surface thereof between electrodes that face to each other; decomposing the hydrogen-modified silicone applied on the surface of the substrate by a glow-discharge plasma which has been generated by applying a high-frequency power or direct current power between the electrodes in an ambient-pressure atmosphere; and forming the silicon oxide film on the substrate. - 特許庁