紫外線抵抗性の英語

昼光への暴露に対する画像の抵抗性を低下させずに紫外線への暴露に起因する劣化に対して高い抵抗性を画像に与える紫外線吸収剤を含む熱色素転写画像形成要素を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat coloring matter transfer image forming element containing an ultraviolet absorber which impairs high resistivity to an image against degradation caused by exposure to ultraviolet radiation without reducing the resistivity of the image to the exposure to daylight. - 特許庁

低硬度、耐ヘタリ性、電気抵抗の均一性に優れた硬化物を形成することが可能な紫外線硬化型導電性組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a UV-curable conductive composition forming a cured product having low hardness and resistance to permanent set by fatigue and excellent in uniformity of electric resistance. - 特許庁

抵抗調整層１６を、単官能の第１光重合性モノマーを主成分とする紫外線硬化型導電性組成物の硬化物より形成する。例文帳に追加

The resistance adjusting layer 16 is formed by hardened material of UV-curable conductive composition with monofunctional first photo-polymerization monomer as a main component. - 特許庁

表面タックがなく紫外線による分解に対する抵抗性をもつフレキソ印刷板に適する感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a photosensitive resin composition free from surface tack, having resistance to degradation by UV and suitable for a flexographic printing plate. - 特許庁

その後、樹脂被膜１５の上から厚膜抵抗体１２をレーザトリミング等でトリミングした後、トリミング溝１６に、紫外線硬化型の絶縁性樹脂を印刷により充填し、これに紫外線を照射して硬化させる。例文帳に追加

Thereafter, the thick-film resistor 12 is trimmed from above the resin film 15 through a laser trimming method or the like, a trimming groove 16 is filled up with ultraviolet-curing insulating resin by printing and then cured through irradiation using ultraviolet rays. - 特許庁

フィラグリン産生を促進することにより細胞や皮膚の紫外線に対する抵抗性を増強することができる素材の提供。例文帳に追加

To provide a material capable of potentiating the resistance of cells and skin to ultraviolet by promoting the production of filaggrin. - 特許庁

所定の水酸基含有量及び低塩素含有量を有する紫外線放射抵抗性の合成石英ガラスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an ultraviolet ray radiation resistant synthetic quartz glass having a predetermined hydroxy group content and a low chlorine content. - 特許庁

低抵抗導電性基板１上に、プラズマＣＶＤ法等により、紫外線発生層であるＢドープダイヤモンド層２を形成する。例文帳に追加

A B-doped diamond ultraviolet generation layer is formed on a low resistance conductive substrate 1 by a plasma CVD method or the like. - 特許庁