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英訳・英語 deposition condition


JST科学技術用語日英対訳辞書での「蒸着条件」の英訳

蒸着条件


「蒸着条件」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 72



例文

蒸着法における成膜条件の評価方法、および蒸着装置例文帳に追加

EVALUATION METHOD OF DEPOSITION CONDITION IN VACUUM DEPOSITION, AND DEPOSITION DEVICE - 特許庁

基板角度を自動調整し、かつ同時蒸着を行う基板毎に成膜条件出し可能な真空蒸着装置および方法を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum deposition system and method capable of automatically adjusting substrate angles and setting a film deposition condition for every substrate to be simultaneously deposited. - 特許庁

蒸着法における効率的な成膜条件の評価方法と、そのための蒸着装置とを提供する。例文帳に追加

To provide an efficient evaluation method of deposition conditions in vacuum deposition, and to provide a deposition device therefor. - 特許庁

蒸発材料を交換する場合に、交換前後における蒸着条件のバラツキを防止し得る蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition apparatus which prevents vapor deposition conditions from varying between before and after the replacement of a vaporizing material. - 特許庁

この際の蒸着条件としては透過率70%、反射率30%が好ましい。例文帳に追加

At this time, vapor-deposition conditions are preferably that transmissivity is 70% and reflectivity is 30%. - 特許庁

蒸着・結晶化促進工程を経た基板34は、所定の温度条件下においてアニールされる。例文帳に追加

A substrate 34 passed through the vapor deposition and crystallization acceleration step is annealed under predetermined temperature conditions. - 特許庁

例文

最適な放電条件を維持できる同軸型アーク蒸着源を提供する。例文帳に追加

To provide a coaxial arc vapor deposition source capable of maintaining optimum discharge condition. - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「蒸着条件」の英訳

蒸着条件


「蒸着条件」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 72



例文

また、微細構造物の幅は上記蒸着条件設定によって制御される。例文帳に追加

Further, the width of the fine structure is controlled by setting conditions for the deposition. - 特許庁

真空蒸着法において、雲母基板の前処理方法および蒸着の際の真空度、蒸着温度、蒸着速度、膜厚等の条件を検討することにより、上記課題を解決した。例文帳に追加

The problem is solved by investigating the pretreatment method for a mica substrate and the conditions such as degree of vacuum, vapor deposition temperature, vapor deposition rate, and film thickness in the vacuum deposition method. - 特許庁

アルミニウム含有層(36)を蒸着する段階は、ニッケル基超合金基体(34)を周囲大気条件に暴露することなく、炭素含有層(32)を蒸着する段階と同じ蒸着装置(好ましくはEB−PVD装置のような真空蒸着装置)内で実施される。例文帳に追加

The step of depositing the aluminum-containing layer (36) is performed in the same deposition apparatus (preferably a vacuum deposition apparatus such as an EB-PVD apparatus) as that used in the step of depositing the carbon-containing layer (32) so as not to expose the nickel-based superalloy substrate (34) to an ambient atmospheric condition. - 特許庁

前回までの蒸着工程と今回の蒸着工程とで同一の蒸着用マスク40を用いるにあたって、前回までの蒸着工程により蒸着用マスク40に付着した堆積層の厚さの測定結果、あるいは当該堆積層の厚さの算出結果に基づいて、今回行う蒸着条件を決定する。例文帳に追加

When the same mask 40 for vapor deposition as that used in the preceding vapor deposition processes is used in this vapor deposition process, the vapor deposition conditions of this vapor deposition process are determined based on the measured result of the thickness of a deposited layer stuck to the mask 40 for vapor deposition in the preceding vapor deposition processes or the calculated result of the thickness of the deposited layer. - 特許庁

このような多孔質リチウム膜は、特定条件下で真空蒸着、イオンプレーティングあるいはスパッタリングすることにより得られる。例文帳に追加

The porous lithium film is provided by vacuum evaporating, ion plating, or sputtering under prescribed conditions. - 特許庁

工程条件を変化させつつ化学気相蒸着法でルテニウム膜を形成する方法及びそれにより形成されたルテニウム膜例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING RUTHENIUM FILM BY CHEMICAL VAPOR PHASE EVAPORATION METHOD WHILE CHANGING PROCESS CONDITIONS, AND RUTHENIUM FILM DEPOSITED BY THE METHOD - 特許庁

蒸着プロセスでの最適な条件となる圧力よりも高い圧力でないと有効にプラズマを発生できない問題を解決する。例文帳に追加

To solve the problem that plasma can not be effectively generated except for the case where pressure is the one higher than the pressure with which the condition is made optimum in a vapor deposition process. - 特許庁

例文

前期金属組成は、蒸着プロセスのような金属皮膜形成工程を採用することにより、工業的な実用条件においても適用可能となる。例文帳に追加

The metallic composition is made applicable under industrial practical conditions by employing a metallic film forming process like a vapor deposition process. - 特許庁

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