酸素不在の英語

分子酸素の不在下におけるプロパンからのアクリル酸の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING ACRYLIC ACID FROM PROPANE IN ABSENCE OF MOLECULAR OXYGEN - 特許庁

分子酸素不在下でのプロパンからのアクリル酸の製造方法。例文帳に追加

To provide a method for producing acrylic acid from propane in the absence of molecular oxygen. - 特許庁

ＰＴＦＥシートを準備し、実質的に酸素不在下で、かつ、３４０±２０℃の雰囲気で、前記ＰＴＦＥシートに放射線照射を行い、この状態で、少なくとも１軸方向に前記ＰＴＦＥシートを延伸する。例文帳に追加

The method comprises preparing a PTFE sheet, irradiating the PTFE sheet with radiation substantially in the absence of oxygen in an atmosphere at 340±20°C, and drawing the PTFE sheet, as it is, in at least one axial direction. - 特許庁

次に、このＰＴＦＥ多孔質膜に対し、実質的に酸素不在下、かつ、温度３４０±２０℃範囲の雰囲気、好ましくは３４０±１０℃範囲の雰囲気で、放射線を照射する。例文帳に追加

Then, the PTFE porous film is irradiated with radiation, substantially in the absence of oxygen, and in an environment of a temperature in the range of 340±20°C, preferably in the range of 340±10°C. - 特許庁

ポリテトラフルオロエチレン粉末を塊状に圧縮成形した後、焼成して得られる成形物に、酸素不在下、ポリテトラフルオロエチレンの融点以上の温度にて、放射線を照射して前記成形物を改質した後、これを切削して長尺フィルムとする。例文帳に追加

The method for manufacturing the modified PTFE film comprises the steps of compression molding a polytetrafluoroethylene powder in a lump state, then emitting a radioactive ray to a molding obtained by baking the compression molding at a temperature of a melting point or higher of a polytetrafluoroethylene in the absence of an oxygen to modify the molding, and then cutting the molding to a long-sized film. - 特許庁

ポリテトラフルオロエチレン粉末に予め吸着剤を添加し均一に混合し、塊状に圧縮成形した後、酸素不在下、ポリテトラフルオロエチレンの融点以上の温度にて、放射線を照射してこの塊状成形物を改質した後、これを切削して長尺フィルムとすることを特徴とする改質ポリテトラフルオロエチレンフィルムの製造方法。例文帳に追加

The method for producing the modified polytetrafluoroethylene film comprises uniformly premixing polytetrafluoroethylene powder with an adsorbent, compression molding the mixture into a massive state, irradiating the compression molded polytetrafluoroethylene with radiation in the absence of oxygen at the melting point of the polytetrafluoroethylene or above to modify the massive molding and cutting the molding into a long film. - 特許庁

一般式（１） （式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す。）で表されるピロール誘導体の含有量が１重量％以下で、一般式（２） （式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す。）で表される高純度ピロリン誘導体を酸素不在下で保管する。例文帳に追加

This high-purity pyrroline derivative of general formula (2) (R1 is a 1-8C alkyl group, a phenyl group or an aralkyl group) having ≤1 wt.% content of a pyrrole derivative of general formula (1) (R1 is a 1-8C alkyl group, a phenyl group or an aralkyl group) is stored in the absence of oxygen. - 特許庁