4-cresolとは 意味・読み方・使い方

The photoresist is composed of an alkali soluble resin including a novolak resin synthesized from meta-cresol and having an average molecular weight of 8,000-25,000 and a dispersity index of ≤4, a photosensitive agent typified by naphthoquinonediadizo-5-sulfonate of tetrahydroxybenzophenone, and a solvent.例文帳に追加

メタクレゾールから合成されるノボラック樹脂で、平均分子量が８０００〜２５０００であり、分散度は４以下であるアルカリ可溶性樹脂、テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドー５−スルホン酸塩に代表される光感応剤及び溶剤を含むホトレジスト。 - 特許庁

This is a vero toxin production inhibitor that can inhibit the bacteria producing vero toxin from producing the same and includes at least one selected from the group consisting of creosote or the creosote components in which the components constituting the creosote are guaiacol, 4-ethylguaiacol, creosol, cresols such as p-cresol, o-cresol or the like, and phenol derivatives including phenol, o-ethylphenol, xylenol or the like.例文帳に追加

ベロ毒素を産生する細菌に対し、当該毒素の産生を抑制せしめるベロ毒素産生抑制剤であり、クレオソートおよび／またはクレオソート構成成分を含有することを特徴とし、クレオソート構成成分がグアヤコール、４−エチルグアヤコール、クレオゾール、オルトクレゾール、パラクレゾール等のクレゾール類、フェノールやオルトエチルフェノール、キシレノール類等のフェノール誘導体からなる群より選ばれた少なくとも１種であることを特徴とするベロ毒素産生抑制剤。 - 特許庁

The positive photoresist composition comprises (A) a novolak resin containing ≥20 mol% m-cresol repeating units and having 1-ethoxyethyl groups substituted for the hydrogen atoms of part of phenolic hydroxyl groups, (B) a quinonediazido-ester compound, e.g. of formula (1) and (C) 1,1-bis(4- hydroxyphenyl)cyclohexane.例文帳に追加

（Ａ）ｍ−クレゾール系繰返し単位を２０モル％以上含有し、フェノール性水酸基の一部の水素原子が１−エトキシエチル基で置換されているノボラック樹脂、（Ｂ）例えば下式（１）のキノンジアジドエステル化物および（Ｃ）１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを含む組成物。 - 特許庁

As the ortho-hydroxybenzaldehydes, salicylaldehyde, 2, 3-dihydroxybenzaldehyde, 2, 4-dihydroxybenzaldehyde, 2, 5-dihydroxybenzaldehyde, methylsalicylaldehyde, etc., and as the phenolic aromatic compound, phenol, cresol, ethylphenol, xylenol, bisphenol A, anisole, para-xylene glycol dimethyl ether, diphenyl ether, etc., are cited.例文帳に追加

前記オルソヒドロキシベンズアルデヒド類としては、サリチルアルデヒド、２，３−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、およびメチルサリチルアルデヒドなどが、また、フェノール性芳香族化合物としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、キシレノール、ビスフェノールＡ、アニソール、パラキシレングリコールジメチルエーテル、ならびにジフェニルエーテルなどが挙げられる。 - 特許庁

A mirror constituted by forming, in the following order, a silver mirror surface film 2, a copper protective film 3, and a back coating film 4 on a glass substrate 1, wherein the back coating film 4 is formed by means of powder coating using a powder coating composition which includes one kind or two kinds or more epoxy resins selected from bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, and cresol novolac epoxy resins.例文帳に追加

ガラス基板１上に銀鏡面膜２と、銅保護膜３と、裏止め塗膜４とを順次形成してなる鏡であって、裏止め塗膜４が、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、及びクレゾールノボラックエポキシ樹脂から選ばれた１種又は２種以上のエポキシ樹脂を含む粉体塗料組成物を用いた粉体塗装により形成されている鏡である。 - 特許庁

Printing 2 is applied onto the front and back paper surfaces 1a, and then a waterproof agent A in which a water repellent agent prepared by diluting reactive silicone with a solvent of isopropyl alcohol and varnish (sheet OP varnish) prepared by solving a synthetic resin and rosin with mineral oil and 2,6-di-tert-butyl-4-cresol are mixed at a ratio of 1:10 is applied thereon.例文帳に追加

紙面１ａの表裏面をインクで印刷２を施し、その後、反応性シリコーンをイソプロピルアルコールの溶剤で希釈した撥水剤と、合成樹脂・ロジン・鉱油・２，６−ジ−ターシャリーブチル−４−クレゾールで溶かしたワニス（枚葉ＯＰニス）を１：１０の割合で混合した防水剤Ａを塗布する。 - 特許庁

A phenol compound, e.g. 4-t-butylcatechol and 2,6-di-t-butyl-p-cresol, preferably in a proportion of 0.1 ppm to 0.1 wt.% based on the amount of the CDT is contained in the reaction system when epoxidizing the CDT with the hydrogen peroxide in the presence of a catalyst containing a tungsten compound, a quaternary onium compound and a phosphoric acid compound.例文帳に追加

ＣＤＴを、タングステン化合物、４級オニウム化合物及びリン酸化合物を含む触媒の存在下に、過酸化水素によりエポキシ化する際にその反応系中にフェノール化合物、例えば、４−ｔ−ブチルカテコール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−Ｐ−クレゾールなどを、好ましくはＣＤＴに対して、０．１ｐｐｍ 〜０．１質量％含有させる。 - 特許庁