Continuous improvement processとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor device manufacturing method that contributes to simplification of a manufacturing process and improvement in product quality while allowing continuous execution of a pre-dicing method and a mounting process adopting flip chip bonding.例文帳に追加

先ダイシング法と、フリップチップボンディングを採用した実装プロセスとを連続して行うことが可能であり、製造プロセスの簡素化と製品品質の向上に寄与しうる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mold release film in which the oligomer amount separated out of the respective film surface of the release film is extremely small and it is possible to contribute to improvement of a continuous productivity in each production process such as adhesive application, drying or release film lamination.例文帳に追加

粘着剤塗布工程・乾燥工程・離型フィルム貼り合わせ工程等の各製造工程において、離型フィルムの各フィルム表面から析出するオリゴマー量が極力少なく、連続生産性向上に寄与することが可能な離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To enable improvement of efficiency in a process for developing, in particular, a function of a controller (for example, an engine controller), or continuous development thereof, by simplifying visualization for sorting data generated when executing or simulating a function model on a computer system.例文帳に追加

コンピュータシステム上における関数モデルの実行またはシミュレーションの際に発生するデータの選別の可視化を簡単化することにより、特に、制御装置（例えばエンジン制御装置）の機能の開発もしくは継続開発のプロセスの効率化を可能にする。 - 特許庁

To provide a cleaning method effective for the cleaning of stains around ejection nozzles of a spinneret caused by kneeling phenomenon in the conjugated spinning of polymers having intrinsic viscosity difference and enabling the increase in cleaning interval, elongation of continuous work period of the spinneret face and the improvement of the process stability of the produced fiber in the following steps.例文帳に追加

極限粘度差のあるポリマーを複合して紡糸する際の、ニーリング現象による口金汚れ吐出細孔周囲の汚れに対する有効な洗浄方法を提供するものであり、清掃間隔の延長および、口金面連続使用時間の延長、紡糸した繊維の後工程での工程安定性の向上が可能となる。 - 特許庁