Integrated Device Technologyとは 意味・読み方・使い方

To provide a technology for a semiconductor integrated circuit device which allows each of the DRAM memory cells to be microfabricated so as to be integrated more highly and operate faster.例文帳に追加

ＤＲＡＭのメモリセルを微細化して高集積化するとともに高速動作可能な半導体集積回路技術を提供する。 - 特許庁

To provide an organic field-effect transistor and an integrated circuit device which can realize a short channel without using lithography technology and etching technology.例文帳に追加

リソグラフィ技術やエッチング技術を利用することなく短チャネル化を図れる有機電界効果トランジスタおよび集積回路装置を提供する。 - 特許庁

To provide an asynchronous input data path technology capable of reducing latency by achieving a high speed of an integrated circuit device.例文帳に追加

集積回路の高速化を図り、レイテンシを低減する非同期入力データ経路技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for manufacturing a semiconductor device which is low in cost, is less in volume, and is highly integrated.例文帳に追加

低コストで、容積が少なく、かつ高集積化された半導体装置を作製する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an integrated circuit device having a microfabricated wiring structure beyond the limits of the lithography technology.例文帳に追加

リソグラフィー技術の限界以上に微細化した配線構造を持つ集積回路装置製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a technology for improving reliability of a semiconductor integrated circuit device having a Cu interconnection.例文帳に追加

Ｃｕ配線を有する半導体集積回路装置の信頼度を向上することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide technology to accurately detect a location of a semiconductor element in a highly integrated semiconductor device.例文帳に追加

高集積化された半導体装置において、半導体素子の位置を正確に把握する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an integrated circuit device, in particular, an integrated memory device including a fine wire structure capable of pushing past the limits of lithographic technology.例文帳に追加

本発明の目的は、リソグラフィー技術の限界を破ることのできる、微細な細線構造を備えた集積回路装置、特に集積記憶装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁