Natural Oxide Filmとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of removing an oxide film such as a natural oxide film or the like on a semiconductor substrate, and a semiconductor manufacturing device used for it.例文帳に追加

半導体基板の自然酸化膜などの酸化膜を除去する方法及びこれに用いられる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

Then, after removing a natural oxide film by washing the substrate with dilute fluorinated acid, the substrate is washed with ozone water to form an oxide film 16 on the surface.例文帳に追加

次に、希フッ酸による洗浄を行い自然酸化膜を除去した後オゾン水によって洗浄を行い表面に酸化膜１６を形成する。 - 特許庁

Cation seeds generated in plasma are supplied on wafer W, and natural oxide film is removed.例文帳に追加

プラズマ中に生じたカチオン種はウェハＷ上に供給され、自然酸化膜が除去される。 - 特許庁

After that, a surface treatment for preventing generation of a natural oxide film is performed on the surface of the electrode 40.例文帳に追加

その後、下部電極表面に自然酸化膜の発生を阻止するための表面処理を行う。 - 特許庁

A thin film 3 is deposited on a thin natural hydrated aluminum oxide thin layer 2.例文帳に追加

薄い天然水和酸化アルミニウムの薄層２の上に薄いフイルム３が形成される。 - 特許庁

A natural oxide film on the substrate W changes into a final product by gas introduction.例文帳に追加

ガス導入で基板Ｗ上の自然酸化膜が最終生成物に変化する。 - 特許庁

A natural oxide film removing process is applied and, thereafter, the process is shifted to an oxygen ion pouring process of a treatment S103.例文帳に追加

自然酸化膜除去工程を経て、処理Ｓ１０３の酸素のイオン注入工程に移行する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device by which a natural oxide film having different thicknesses by position can be removed well without over-etching a semiconductor substrate and a metal film positioned under the natural oxide film.例文帳に追加

自然酸化膜下に位置する半導体基板や金属膜がオーバエッチングされず、位置によって厚みの異なる自然酸化膜を良好に除去できる半導体装置の提供。 - 特許庁