PULSED PLASMAとは 意味・読み方・使い方

In addition, a pulsed welding current is energized to the plasma arc to set the frequency of this pulsed welding current at 100 Hz or higher.例文帳に追加

また、プラズマアークにパルス状の溶接電流を通電し、このパルス状の溶接電流の周波数を１００Ｈｚ以上に設定する。 - 特許庁

METHOD FOR SUPPLYING PULSED PLASMA IN PORTION OF SEMICONDUCTOR WAFER PROCESS例文帳に追加

半導体ウェーハ処理の一部分中にパルス化プラズマを供給する方法 - 特許庁

The voltage for generating plasma applied to the electrode (6) comprises a pulsed alternating current with RF (Radio Frequency) (22) in which alternating voltage is continued with a frequency in a radio frequency RF band for a predetermined period of time, a pulsed direct current having positive voltage (21), and a pulsed direct current having negative voltage (23).例文帳に追加

電極（６）に印加されるプラズマ発生用電圧は，ＲＦ（Radio Frequency）帯の周波数の交流電圧が所定の時間継続されるＲＦ交流パルス（２２）と，正電圧を有する正電圧直流パルス（２１）と，負電圧を有する負電圧直流パルス（２３）とを含んで構成されている。 - 特許庁

In a method for producing silicon, H_2 and a carrier gas such as Ar are introduced into a plasma generation part being an apparatus for generating pulsed thermal plasma to generate plasma including a hydrogen radical, and the generated plasma is allowed to react with SiHCl_3.例文帳に追加

Ｈ_２とＡｒ等のキャリアガスをパルス熱プラズマ発生装置であるプラズマ発生部に導入して水素ラジカルを含むプラズマを発生させ、当該プラズマをＳｉＨＣｌ_３と反応させる。 - 特許庁

The pulsed power system comprises an inductive energy storage circuit (42) including a current source (43) and a plasma opening switch (44).例文帳に追加

パルス電力システムは、電流源(43)とプラズマ開放スイッチ(44)とを含む誘導性エネルギー蓄積回路(42)を有する。 - 特許庁

NOTCH-FREE ETCHING OF HIGH ASPECT RATIO SOI STRUCTURES USING ALTERNATING DEPOSITION AND ETCHING AND USING PULSED PLASMA例文帳に追加

交互の付着およびエッチングおよび有パルスプラズマを使用する高縦横比ＳＯＩ構造のノッチ無しエッチング - 特許庁

The ultra-high density Si plasma (10^14/cm^3) 1 generated by a pulsed laser beam is subjected to collision reaction against the plasma 2 generated through a different plasma reaction using a silane gas, a hydrogen gas, etc.例文帳に追加

パルスレーザー光によって発生した超高密度のＳｉプラズマ（１０^１４／ｃｍ^３）１を、シランガス、水素ガス等を用いた別のプラズマ反応で生成されたプラズマ２と衝突反応させる。 - 特許庁

A magnetically shielded, efficient plasma generation configuration for a pulsed discharge extreme ultraviolet (EUV) source includes two opposed convex electrodes 10 and 20 mounted on axes parallel to a static magnetic field.例文帳に追加

パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。 - 特許庁