Pattern Lithography Systemとは 意味・読み方・使い方

SYSTEM AND METHOD FOR PRINTING INTERFERENCE PATTERN HAVING PITCH IN LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

リソグラフィシステムにおけるピッチを有する干渉パターンを印刷するためのシステムおよび方法 - 特許庁

To provide an optical lithography system for providing an optical pattern without using a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを使用せずに光パターンを与える光リソグラフィーシステムを提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF EXPOSING HOLE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線描画装置、ホールパターンの露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF例文帳に追加

電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁

To minimize scattered light in a maskless lithography system having multiple pattern generating devices.例文帳に追加

マルチパターン生成装置をもつマスクレスリソグラフィシステムにおいて、散乱光を最小化する。 - 特許庁

A system, method, and product for manufacturing a semiconductor device by a lithography which are accompanied by a lithography double patterning process for adding a coloring matter to a first or second lithography pattern are provided.例文帳に追加

第１または第２リソグラフィパターンに色素を付加するリソグラフィダブルパターニングプロセスを伴う、半導体デバイスをリソグラフィにより製造するシステムおよび方法、ならびに製造物が提供される。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING AND RECESSING PATTERN SUPPORT, AND MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁