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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 百科事典 > Residue depthの意味・解説 

Residue depthとは 意味・読み方・使い方

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ウィキペディア英語版での「Residue depth」の意味

Residue depth

出典:『Wikipedia』 (2011/04/06 22:06 UTC 版)

英語による解説
ウィキペディア英語版からの引用

「Residue depth」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 2



例文

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a large depth of focus, ensures small LWR and little residue on dissolution in development and hardly causes development defects.例文帳に追加

焦点深度が広く、LWRが小さく、現像時の溶け残りが少なく現像欠陥が発生し難い感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a positive resist composition which is enhanced in resolving power, reduced in residue on development and improved in process admissibility such as a margin for exposure and a focal depth in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、現像残査が低減し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

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Text is available under Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA) and/or GNU Free Documentation License (GFDL).
Weblio英和・和英辞典に掲載されている「Wikipedia英語版」の記事は、WikipediaのResidue depth (改訂履歴)の記事を複製、再配布したものにあたり、Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA)もしくはGNU Free Documentation Licenseというライセンスの下で提供されています。

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