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residue formationとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 残基形成
「residue formation」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 72件
The polyester resin for film formation is constituted of a divalent carboxylic acid residue composed of a dicarboxydiphenyl ether structure and a divalent phenol residue.例文帳に追加
ジカルボキシジフェニルエーテル構造からなる二価カルボン酸残基と、二価フェノール残基とから構成される被膜形成用ポリエステル樹脂。 - 特許庁
To easily and reliably remove resist residue after resist pattern formation and to prevent trouble by the effect of resist residue.例文帳に追加
レジストパターンの形成後に残るレジスト残渣を、容易に、しかも確実に除去し、レジスト残渣の影響による不都合の発生を防止する。 - 特許庁
To provide a method of removing any metal residue that has not been silicided during formation of a metal silicide.例文帳に追加
金属シリサイドの形成中にシリサイド化されなかった金属の残留物を除去する方法を提供すること。 - 特許庁
As the result, a mask pattern 17A for wiring groove formation is complete without a resist residue.例文帳に追加
これにより、孔部14aにレジスト残渣を生じることなく配線溝形成用のマスクパターン17Aが形成される。 - 特許庁
The clinker ash formation accelerating method for accelerating the formation of clinker ash by adding the clinker ash formation accelerator containing a combustion residue of coal, to coal used as fuel in a pulverized coal combustion facility 1, uses clinker ash as the combustion residue of coal.例文帳に追加
クリンカアッシュ生成促進方法は、微粉炭燃焼施設1において燃料となる石炭に、石炭の燃焼残渣を含むクリンカアッシュ生成促進剤を添加することによりクリンカアッシュの生成を促進させる方法であって、石炭の燃焼残渣として、クリンカアッシュを用いる。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition capable of suppressing generation of a development residue and allowing formation of a favorable pixel pattern.例文帳に追加
現像残渣の発生を抑制するとともに、良好な画素パターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
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「residue formation」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 72件
This agent for inhibiting formation of melanin is characterized by containing an acidic xylo-oligosaccharide having a uronic acid residue in the molecule.例文帳に追加
分子中にウロン酸残基を有する酸性キシロオリゴ糖を含有することを特徴とするメラニン生成抑制剤。 - 特許庁
To carry out a good image formation by effectively recovering residue toner on a developing roller.例文帳に追加
現像ローラ上に残留したトナーを効果的に回収して、良好な画像形成を行うことができるようにする。 - 特許庁
To prevent resist residue from generating by exposure failure when exposing a photoresist layer in a gate electrode formation process.例文帳に追加
ゲート電極の形成工程におけるフォトレジスト層を露光した際に、露光不良によりレジスト残渣が発生しないようにすること。 - 特許庁
To pattern a comparatively thick ITO thin film, which was formed by room temperature film formation on a flexible board, through etching without causing residue or side etch.例文帳に追加
フレキシブル基板上に室温成膜した比較的厚いITO薄膜をエッチングにより残渣やサイドエッチなくパターニングすること。 - 特許庁
To provide a method for reducing or eliminating residue formation upon evaporation of a composition to form a dielectric film.例文帳に追加
誘電体膜を形成するための組成物を蒸着する際の、残渣の形成を低減又は無くする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a wiring formation method using a dual damascene method for controlling dimensions in the horizontal direction of a via hole easily, and for preventing the formation of a crown due to a residue caused by the incomplete dissolution of resist.例文帳に追加
ビアホールの横方向の寸法制御が容易であって、レジストの溶け残りによるクラウンの発生を防止できるデュアルダマシン法による配線形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a colored photosensitive resin composition which has little residue and enables formation of a coating film and a pattern having good heat resistance.例文帳に追加
残渣が少なく、且つ耐熱性が良好な塗膜やパターンを形成できる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern formation method which prevents a peeling residue at the time of peeling an antistatic film and is excellent in an in-plane uniformity after developing.例文帳に追加
帯電防止膜剥離時の剥離残りが防止され、現像後の面内均一性に優れたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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