「residue formation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This agent for inhibiting formation of melanin is characterized by containing an acidic xylo-oligosaccharide having a uronic acid residue in the molecule.例文帳に追加

分子中にウロン酸残基を有する酸性キシロオリゴ糖を含有することを特徴とするメラニン生成抑制剤。 - 特許庁

To carry out a good image formation by effectively recovering residue toner on a developing roller.例文帳に追加

現像ローラ上に残留したトナーを効果的に回収して、良好な画像形成を行うことができるようにする。 - 特許庁

As the result, a mask pattern 17A for wiring groove formation is complete without a resist residue.例文帳に追加

これにより、孔部１４ａにレジスト残渣を生じることなく配線溝形成用のマスクパターン１７Ａが形成される。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of preventing the occurrence of pattern defects even when there is a liquid residue of an alicyclic saturated hydrocarbon compound.例文帳に追加

脂環式飽和炭化水素化合物の液残りがあってもパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The use of the layers helps to prevent formation of bubbles in the immersion liquid and reduce residue on the elements after being immersed in the liquid.例文帳に追加

これらの使用は、浸漬液中の気泡形成が防止され、かつ浸漬液に浸漬された後、要素上に残る残渣が低減される助けとすることができる。 - 特許庁

To prevent resist residue from generating by exposure failure when exposing a photoresist layer in a gate electrode formation process.例文帳に追加

ゲート電極の形成工程におけるフォトレジスト層を露光した際に、露光不良によりレジスト残渣が発生しないようにすること。 - 特許庁

The use can help to prevent the formation of bubbles in the immersion liquid and to reduce a residue on the elements after being immersed in the immersion liquid.例文帳に追加

これらの使用は、浸漬液中の気泡形成が防止され、かつ浸漬液に浸漬された後、要素上に残る残渣が低減される助けとすることができる。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which has little residue and enables formation of a coating film and a pattern having good heat resistance.例文帳に追加

残渣が少なく、且つ耐熱性が良好な塗膜やパターンを形成できる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which prevents a peeling residue at the time of peeling an antistatic film and is excellent in an in-plane uniformity after developing.例文帳に追加

帯電防止膜剥離時の剥離残りが防止され、現像後の面内均一性に優れたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To pattern a comparatively thick ITO thin film, which was formed by room temperature film formation on a flexible board, through etching without causing residue or side etch.例文帳に追加

フレキシブル基板上に室温成膜した比較的厚いＩＴＯ薄膜をエッチングにより残渣やサイドエッチなくパターニングすること。 - 特許庁

To provide a method for reducing or eliminating residue formation upon evaporation of a composition to form a dielectric film.例文帳に追加

誘電体膜を形成するための組成物を蒸着する際の、残渣の形成を低減又は無くする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of removing any metal residue that has not been silicided during formation of a metal silicide.例文帳に追加

金属シリサイドの形成中にシリサイド化されなかった金属の残留物を除去する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of suppressing generation of a development residue and allowing formation of a favorable pixel pattern.例文帳に追加

現像残渣の発生を抑制するとともに、良好な画素パターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiring formation method using a dual damascene method for controlling dimensions in the horizontal direction of a via hole easily, and for preventing the formation of a crown due to a residue caused by the incomplete dissolution of resist.例文帳に追加

ビアホールの横方向の寸法制御が容易であって、レジストの溶け残りによるクラウンの発生を防止できるデュアルダマシン法による配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device which forms a tensile stress film and a compressive stress film, respectively, in an NMOS formation region and a PMOS formation region without causing such a problem as formation of a recess in an isolation portion or etching residue, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

素子分離部への凹部の形成やエッチング残りなどの問題を生じることなく、ＮＭＯＳ形成領域およびＰＭＯＳ形成領域にそれぞれ引張り応力膜および圧縮応力膜を選択的に形成することができる、半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.例文帳に追加

水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a washing method of a coverslip with a spacer which prevents the stripping of a spacer and the formation of adhesive residue and which is capable of removing the residue at the time of dry etching and the environmental foreign matter.例文帳に追加

固体撮像装置に組み込まれるスペーサ付カバーガラスを洗浄するにあたり、スペーサの剥がれ、接着剤残りの形成を防ぎ、ドライエッチング時の残渣、環境異物を除去することのできるスペーサ付カバーガラスの洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

The method for treating a feed containing at least 5% organic substances comprises the stages of: (a) thermally decomposing the feed by pyrolysis under such a condition that enable the formation of carbon-containing solid residue and a gas phase, (b) separating the gas phase from the carbon-containing solid residue, and (c) treating the carbon-containing solid residue by microwave radiation in the presence of an oxidizing agent.例文帳に追加

−ａ）炭素含有固体残渣およびガス相の形成をもたらす条件下で、前記フィードをパイロリシスによって熱的に分解させる段階と、ｂ）ガス相と炭素含有固体残渣とを分離する段階と、ｃ）酸化剤の存在下で、マイクロ波放射によって前記炭素含有固体残渣を処理する段階とを含む少なくとも５％の有機物質を含有するフィードの処理方法。 - 特許庁

The thin film formation device 1 for forming a plurality of thin films in a substrate 10 in the same chamber 2 by an antenna type plasma CVD method (chemical vapor deposition) has a residue removal means for removing residue which affects property of a second thin film formed next to a first thin film of a plurality of thin films and is caused in a first thin film formation process.例文帳に追加

アンテナ式プラズマＣＶＤ法（化学的気相成長法）により基板１０に複数の薄膜を同一チャンバ２内で形成する薄膜形成装置１であって、複数の薄膜のうち第１薄膜の次に形成する第２薄膜の特性に影響を与え、かつ、第１薄膜形成過程に起因した残留物質をチャンバ２内から除去する残留物質除去手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁

As a means to solve the fence or the lift-off residue of the resist mask in a track formation process and an element height formation process, lift-off is performed by CMP by forming a 1st stopper layer 41 on the magnetoresistive effect film 3, and a 2nd stopper layer 42 on a refill film 6.例文帳に追加

トラック形成工程及び素子高さ形成工程における、フェンスやレジストマスクのリフトオフ残りを解決する手段として、磁気抵抗効果膜３の上に第一のストッパー層４１を、リフィル膜６の上に第二のストッパー層４２を配し、ＣＭＰによってリフトオフを行う。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having a low refractive index and also less development residue and allowing formation with high resolution of a pattern excellent in dry etching resistance, a pattern forming material, and a photosensitive film, a pattern formation method, a pattern film, a low refractive index film, an optical device and a solid imaging element using the same.例文帳に追加

屈折率が低く、更には、現像残渣が少なく、ドライエッチング耐性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

This uneven wall face-reproducing member is made of a curable formation material wherein rubber hardness before hardening is 10-50 degrees, wherein a heating residue is 25-70 mass% or above, and wherein an ash content when combusting the curable formation material at 600°C for one hour is 30-90 mass% to dry mass before the combustion.例文帳に追加

硬化前のゴム硬度が１０〜５０度、加熱残分が２５〜７０質量％以上、かつ、６００℃、１時間燃焼させた際の灰分が燃焼前の乾燥質量に対して３０〜９０質量％である、硬化性形成材からなる、凹凸壁面複製用部材。 - 特許庁

This method prevents the formation of agglomerated residue by thermally decomposing the waste plastic in the presence of either one of a fibrous inorganic substance, a bar type inorganic substance, and a resin including a glass fiber.例文帳に追加

廃プラスチックを繊維状の無機物、棒状の無機物、ガラス繊維を含む樹脂のいずれかの存在下で熱分解することにより、塊状残渣の生成を防止する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which has a high pigment concentration and ensures high resolution and less residue in formation of a color filter using a photopolymerization system.例文帳に追加

光重合系を利用するカラーフィルタの形成において、高い顔料濃度で、解像度が高く、かつ残渣が少ない、着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To utilize a thermal decomposition gas recovered by thermally decomposing an organic waste in an oxygen-free atmosphere and a nonvolatile residue as a heat source for heating and eliminate the formation of dioxins in consequence of combustion.例文帳に追加

有機性廃棄物を無酸素雰囲気で熱分解して回収した熱分解ガス、および不揮発性残渣を暖房用の熱源として利用するとともに、燃焼に伴うダイオキシンの発生を無くする。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor device manufacturing method and a cleaning agent which can appropriately remove residue occurring in processing associated with formation of a recess and the like.例文帳に追加

リセス等の形成に伴う処理で生じる残渣を適切に除去することができる化合物半導体装置の製造方法及び洗浄剤を提供する。 - 特許庁

To prevent electrical damages caused by charge-up at the formation of wiring on a device formed on a semiconductor substrate, to thereby prevent wiring short-circuit caused by etching residue.例文帳に追加

半導体基板に形成されたデバイス上に形成される配線形成時におけるチャージアップによるデバイスの電気的ダメージを防止するとともに、エッチング残渣による配線ショートを防止する。 - 特許庁

To improve the manufacturing yield of a semiconductor device by preventing formation of an error pattern in a resist pattern by reducing fine residue on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上の微小残渣を低減して、レジストパターンにおける不正パターンの形成を防止し、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

By evaporating the composition under such a condition, the method for forming the layer of carbon-doped silicon oxide on the substrate is provided which reduces or eliminates the residue formation.例文帳に追加

その様にして組成物を蒸着する事により、残渣の形成を低減又は無しにした、炭素をドープした酸化ケイ素層を基材上に形成する方法が提供される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing the residue of a chemical component of an etching solution on a semiconductor layer before oxide film formation.例文帳に追加

酸化膜形成前の半導体層上にエッチング液の薬液成分が残留することを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device wherein the formation of minute etching residue such as the factor of the occurrence of particles can be avoided.例文帳に追加

パーティクル発生の要因となるような微細なエッチング残りが形成されることを回避することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide rolled copper foil for a printed wiring board suitable for use in the printed wiring board, small in etching residue in a wiring formation process by etching, and excelling in shape stability of circuit wiring.例文帳に追加

プリント配線板用途に適しており、エッチングによる配線形成工程におけるエッチング残りが少なく、回路配線の形状安定性に優れたプリント配線板用圧延銅箔を提供する。 - 特許庁

Therefore, when the plating resist film 25 is peeled off after the formation of a columnar electrode 12, no resist residue of the plating resist film 25 therefore is left among the wiring 11.例文帳に追加

したがって、柱状電極１２形成後にメッキレジスト膜２５を剥離するとき、配線１１間に柱状電極形成用メッキレジスト膜２５のレジスト残渣が発生しないようにすることができる。 - 特許庁

To prevent both the etching residue of a plating base film and an excessively etched electrode pad in removing the plating base film used for bump formation by etching.例文帳に追加

バンプ形成に用いためっき下地膜をエッチングによって除去する場合に、めっき下地膜のエッチング残りや、電極パッドの過剰エッチングを共に防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic component for effectively controlling a residue of a void in a shielding layer during the formation of the shielding layer by utilizing resin paste.例文帳に追加

樹脂ペーストを利用してシールド層を形成しながら、シールド層でのボイドの残存を効果的に抑制できる、電子部品の製造方法の提供を図る。 - 特許庁

To provide a catalyst residue removing agent which achieves formation of an electroless nickel plating coating and is excellent in characteristics to form a good plating coating only on a conductive pattern section on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント配線板において、導電性パターン部にのみ良好なめっき皮膜を形成できる特性に優れた無電解ニッケルめっき皮膜の形成を可能にする、触媒残渣除去剤を提供する。 - 特許庁

To provide a molded salt for feed utilizing table salt recovered from food processing residue, having high strength, and inhibited from formation of peroxide; and to provide a method for producing the molded salt for feed.例文帳に追加

食品加工残渣から回収した食塩を利用した、強度が高く、且つ過酸化物が形成されるのを抑制できる塩成形体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a bottom section structure of a waste melting furnace capable of preventing scattering of furnace dry distillation residue caused by increase of a furnace superficial velocity, and properly discharging molten matters while preventing formation of a core.例文帳に追加

炉内空塔速度上昇による炉内乾留残渣の飛散を防止し、炉芯の形成を防止して溶融物の適正な排出ができる廃棄物直接溶融炉の炉底構造を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film formation method for producing a film which has very good functional performance by preventing generation of a chip in the produced film caused by a wet residue, and a suitable droplet discharge device to carry out the same.例文帳に追加

濡れ残りによって得られる薄膜に欠けが生じることを防止し、得られる薄膜がその機能を良好に発揮し得るようにした薄膜形成方法と、これを実施するのに好適な液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist material that has high sensitivity, high resolution, small line edge roughness even when silicon content is high, generates no residue, and is well-suitable for pattern formation of a high aspect ratio.例文帳に追加

高感度、高解像度を有し、高い珪素含有率においてもラインエッジラフネスが小さく、残渣等の発生がない、特に高アスペクト比のパターンを形成するのに適したレジスト材料。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation giving pixels and a black matrix which are excellent in adhesion to a substrate and solvent resistance even at a small amount of light exposure and produce no residue on development.例文帳に追加

低露光量においても基板との密着性、耐溶剤性に優れ、且つ現像残渣の生じることのない画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method of organic waste capable of generating a necessary quantity of power in a reforming furnace while avoiding the formation of clinker in the reforming furnace to recover pyrolyzed residue containing a carbon component.例文帳に追加

改質炉内部でのクリンカの生成を回避しつつ、必要分の所内電力を発電し、炭素分を含む熱分解残渣を回収することができる有機性廃棄物の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a detoxification treatment method of ash to be treated which is capable of controlling the formation of powdered burned ash and of controlling the residue of heavy metals and the like included in the ash to be treated, and to provide a device thereof.例文帳に追加

粉末状焙焼灰の形成を抑制し、且つ被処理灰に含まれる重金属類の残留を最小限に抑えることができる被処理灰の無害化処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To prevent generation of a useless portion in chalcogenide glass which is a material, and to prevent generation of a gas residue in formation, even when a preform is formed by a simple mold.例文帳に追加

材料であるカルコゲナイドガラスに無駄が生じないようにするとともに、プリフォームを簡単な型で形成しても成形時にガス残りすることのないようにする。 - 特許庁

Prior to the formation of a ceramic film, a quantity of carbon residue remaining on the surface of the copper or copper alloy pipe is restrained to 0.15 mg/dm2 or less, then the ceramic film is formed on the surface of the copper or copper alloy pipe.例文帳に追加

セラミックス皮膜形成前において、銅又は銅合金管の表面に残留する残留炭素量が０．１５ｍｇ／ｄｍ^2以下であり、この銅又は銅合金管の表面にセラミックス皮膜が形成される。 - 特許庁