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Side etchingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 サイド・エッチ
「Side etching」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1205件
To suppress the generation of side etching in dry etching.例文帳に追加
ドライエッチングにおいて、サイドエッチングの発生を抑制する。 - 特許庁
To improve the surface positional accuracy of an etching side wall face by suppressing the side etching in the dry etching of a single crystal silicon layer.例文帳に追加
単結晶シリコン層のドライエッチングにおけるサイドエッチングを抑制してエッチング側壁面の面位置精度の向上を図れるようにする。 - 特許庁
The sputter etching is continuously performed until side etching is stopped.例文帳に追加
スパッタエッチング法によるエッチングはサイドエッチングが停止するまで継続する。 - 特許庁
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「Side etching」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1205件
This reduces over-etching or side-etching and realizes a specified shape.例文帳に追加
従って、オーバーエッチングやサイドエッチングが低減されて、所定の形状を得ることができる。 - 特許庁
To provide a method for etching a PZT film capable of preventing side etching.例文帳に追加
サイドエッチングを防止できるPZT膜のエッチング方法を提供する。 - 特許庁
A surface on a non-etching side of a copper layer is plated to a resin substrate while a layer having an etching rate slower than that of copper is formed on an etching surface side of the copper layer, and a resist pattern for forming a circuit is formed on an etching surface.例文帳に追加
銅層のエッチング面側に、銅よりエッチングレートの遅い層を形成すると共に、前記銅層の非エッチング側の面を樹脂基板に張付け、エッチング面に回路形成用レジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide an etching method for a thin film composed of zinc-oxide based crystal, wherein the method suppresses side etching and anisotropic etching, and suppresses occurrence of etching residues, not depending on coarseness or fineness of wiring patterns and on pattern geometry, while the method performs etching treatment with the optimum etching rate.例文帳に追加
酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のエッチングにおいて、最適なエッチング速度でエッチング処理を施すことができ、配線パターンの粗密やパターン形状に依存せず、サイドエッチングや異方性エッチングを抑制し、且つエッチング残渣の発生を抑制するエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
A plurality of etching liquid jetting pipes 5, which jet an etching liquid 7 towards the substrate 1, are provided side by side in the width direction of the substrate 1.例文帳に追加
基材1の幅方向に並べて配設された、基材1に向けてエッチング液7を噴射する複数のエッチング液噴射管5を具備する。 - 特許庁
Next, the etching side E1 is made flat by embedding resin R1 into the pits P1 existing on the etching side E1.例文帳に追加
次に、エッチング面E1に存在するピットP1に樹脂R1を埋め込むことによって、エッチング面E1を平坦化する。 - 特許庁
To provide an etching processing method and a device therefor for protecting one side of a wafer and etching or rinsing the other side of the wafer.例文帳に追加
ウェーハの片面を保護して他の片面をエッチングまたはリンス処理を行うエッチング処理方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
In this case, the ratio dX/dY of the side etching quantity in the X-axis direction to the side etching quantity in the Y-axis direction is 3.0 or higher.例文帳に追加
この際X軸方向のサイドエッチング量のY軸方向のサイドエッチング量に対する比率(dX/dY)が3.0以上である。 - 特許庁
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