Ultraviolet Cleaning Systemとは 意味・読み方・使い方

CLEANING METHOD OF OPTICS SYSTEM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY例文帳に追加

極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of efficiently cleaning tokens by an ultraviolet ray emitting system.例文帳に追加

紫外線照射方式によりコインを効率的に洗浄することの可能な洗浄機を提供する。 - 特許庁

The substrate cleaning system 10 is designed for cleaning the surface of the substrate to be treated and has wet cleaning equipment 11 and ultraviolet ray (UV) cleaning equipment 12 arranged behind the wet cleaning equipment 11.例文帳に追加

基板洗浄システム１０は、処理対象となる基板の表面を洗浄するためのものであり、湿式洗浄装置１１と、湿式洗浄装置１１の後段に配置された紫外線（ＵＶ）洗浄装置１２とを有している。 - 特許庁

The cleaning method of an optics system for an extreme ultraviolet lithography is characterized by supplying HCl/Cl_2 mixture gas to the optics system in cleaning the optics system for the extreme ultraviolet lithography using Sn as a plasma source.例文帳に追加

プラズマ源としてＳｎを用いる極端紫外線リソグラフィーのための光学系をクリーニングするにあたり、ＨＣｌ／Ｃｌ_2混合ガスを前記光学系に供給することを特徴とする極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法。 - 特許庁

To provide a photocatalyst system capable of obtaining a sufficient environment cleaning function even in the room of an automobile without ultraviolet light.例文帳に追加

紫外光のない車室内においても充分な環境浄化機能を得る事のできる光触媒システムを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of an optics system for extreme ultraviolet lithography, wherein the speed of etching of a Sn deposit can be increased.例文帳に追加

Ｓｎ堆積物のエッチング速度を高めることができる極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

The electrolytic plating system 1 comprises an ozone gas introduction system 44, a dry cleaning device DW provided with an ultraviolet- generating section 65, and an electrolytic plating apparatus M for passing an electric current to a wafer W and plating it.例文帳に追加

本発明の電解メッキシステム１は、オゾンガス導入系４４及び紫外線発生部６５を備えたドライ洗浄装置ＤＷと、ウエハＷに電流を流してメッキを施す電解メッキ装置Ｍとを備えている。 - 特許庁