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alignment errorsとは 意味・読み方・使い方
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「alignment errors」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 54件
To provide an exposure apparatus that can reduce alignment errors or focus errors, thus achieving a pattern form and a line width as targets.例文帳に追加
アライメント誤差又はフォーカス誤差を低減し、目標とするパターン形状、線幅を達成する露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an automatic alignment method for active region and deep trench, with which alignment can be performed automatically and influence due to alignment errors can be avoided.例文帳に追加
自動的にアライメントを行いアライメント誤差による影響を避けることができる活性領域と深トレンチの自動アライメント方法を提供する。 - 特許庁
TARGET, METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING ASSEMBLY AND ALIGNMENT ERRORS IN SENSOR ASSEMBLY例文帳に追加
センサアセンブリにおけるアセンブリおよび位置合わせエラーを測定するための標的、方法および装置 - 特許庁
To enhance measuring accuracy by facilitating alignment, and preventing errors caused by distance.例文帳に追加
簡便に位置合わせができ、距離による誤差が生じないようにして測定精度を向上する。 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, METHOD OF MEASURING ALIGNMENT ERRORS FROM REAR SIDE TO FRONT SIDE, METHOD OF DETECTING NON-ORTHOGONALITY, CORRECTING METHOD, AND LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加
アラインメント方法、前側から裏側へのアラインメントエラーを測定する方法、非直交性を検出する方法、校正方法、およびリソグラフィ装置 - 特許庁
To provide a method of fabricating a color-filter layer, wherein the possibility of the occurrence of alignment errors of black matrix, and errors in the assembly of the color filter layer is reduced effectively.例文帳に追加
カラーフィルター層の組み立てにおいてブラックマトリックスのアラインメント誤差の発生を有効に低減させるカラーフィルター層を製作する方法を提供する。 - 特許庁
To provide lithography equipment capable of reducing alignment errors due to misalignment in a projection system and the other portion.例文帳に追加
投影システムとその他の部分のミスアライメントから生じるアライメントエラーを低減できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
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「alignment errors」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 54件
To eliminate errors in alignment of masks, when grooves or trenches of different depths are provided in a substrate.例文帳に追加
基板にそれぞれ深さの異なる複数の溝またはトレンチを形成させる際にマスク整列の誤差を無くす。 - 特許庁
To provide an alignment method, a method of measuring an alignment errors from front side to rear side, a method of detecting a non-orthogonality, a correcting method, and a lithography device.例文帳に追加
アラインメント方法、前側から裏側へのアラインメントエラーを測定する方法、非直交性を検出する方法、校正方法、およびリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of correcting accurately the errors caused by an alignment discrepancy generated when performing the alignment of a substrate after its processing, even though no calibrating measurement extending over a wide range is performed.例文帳に追加
広範囲な校正測定を行わなくても、処理の後で基板を整合した場合に起こる整合のずれによる誤差の正確な修正方法を提供すること。 - 特許庁
Basic data necessary for alignment accuracy corresponding to accuracy errors specific to the aligners 11-13 are recorded in a data base 2.例文帳に追加
データベース2には、露光装置11〜13の固有の精度誤差に応じた重ね合わせ精度に必要な基礎データが記録されている。 - 特許庁
To provide an alignment system which reduces correction errors, when detecting the edge of a substrate to correct misalignment of the substrate.例文帳に追加
基板の端縁を検出して基板の位置ずれを修正する際、修正誤差を少なくするアライメント装置を提供すること。 - 特許庁
First alignment marks 52 for measuring the distortion of a reticule caused by errors or the like, when the reticule is formed, are arranged in grillages 45'.例文帳に追加
レチクルの製作時の誤差等に起因する歪を計測するための第1のアライメントマーク53を、グリレージ部45′に配置する。 - 特許庁
To simplify the operation of alignment and link coordinates without the increase of coordinate errors even if inspecting conditions are changed.例文帳に追加
アライメント操作を簡略化し、また、検査条件が変更された場合にも座標誤差を大きくすることなく座標リンクを行う。 - 特許庁
A relative position of the marks on the front and rear sides of the substrate is obtained, and the alignment errors of the front and rear sides of the whole body of the substrate are measured.例文帳に追加
基板の表裏側にあるマークの相対位置を求めて、基板全体での表裏側のアラインメントエラーを計算する。 - 特許庁
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