an Al hillockとは 意味・読み方・使い方

Since a Ti film exists in contact with an Al film, occurrence of the Al hillock in the Al film is suppressed.例文帳に追加

Ａｌ膜に接してＴｉ膜が存在することで、Ａｌ膜でのＡｌヒロックの発生を抑制する。 - 特許庁

To obtain an Al wiring which can suppress a battery reaction with indium tin oxide(ITO) to avoid hillock growth.例文帳に追加

ＩＴＯとの電池反応を抑制でき、ヒロックの発生を防止できるＡｌ配線を得る。 - 特許庁

To prevent a hillock when an Al cabling is used to lower resistance in the cabling in a display apparatus.例文帳に追加

表示装置において配線の抵抗を下げるためにＡｌ配線を用いた場合のヒロックを防止する。 - 特許庁

To prevent hillock and electrochemical reaction with an ITO electrode in an Al wiring film, and then suppress the generation of etching residue.例文帳に追加

Ａｌ配線膜におけるヒロックの発生やＩＴＯ電極等との電気化学反応を防止した上で、エッチング残渣の発生を抑制する。 - 特許庁

To improve reliability of connections by preventing an Al hillock and reducing connection resistance without complicating wiring structures of a scanning line and a signal line formed in an active matrix substrate.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板に形成される走査線、信号線の配線の構造を複雑化することなく、Ａｌヒロックを抑制し、かつ接続抵抗を低減して接続部の信頼性を向上する。 - 特許庁

Thus, the quality of the Al-Cu film is improved, namely, an area causing a density difference with crystal grains is made narrower than in the conventional example, the film quality is so improved as to suppress an occurrence of hillock.例文帳に追加

これにより、Ａｌ−Ｃｕ膜は、結晶粒と粗密差が生じる領域が従来例よりも狭くなってヒロックの発生が抑制される膜質に改善される。 - 特許庁

To provide an Al-based alloy sputtering target which is useful for forming a metal thin film excellent in low wiring resistance and hillock resistance and which preferably suppresses the occurrence of splash during sputtering.例文帳に追加

低配線抵抗と耐ヒロック性に優れた金属薄膜の形成に有用であり、好ましくはスパッタリング時のスプラッシュの発生を抑制することができるＡｌ基合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁