analysis of reflectanceとは 意味・読み方・使い方

An analysis section 202 analyzes to which of a real expression range wherein the reflectance is 0% or over and 100% or below, a virtual expression range wherein the reflectance is less than 0%, and a virtual expression range wherein the reflectance exceeds 100%, respective pixel values of RGB components of pixels included in the image data belong.例文帳に追加

解析部２０２は、この画像データに含まれる画素のＲＧＢ成分それぞれの画素値が、反射率０％以上かつ１００％以下である実表現範囲、反射率０％未満の仮想表現範囲、又は、反射率１００％を超える仮想表現範囲のいずれかに属するかを解析する。 - 特許庁

Further, a color pattern including the object and a plurality of reflection objects whose spectral reflectance is clear is photographed under the same photographing illumination, the spectral radiance of the illumination is obtained by utilizing the principal component analysis to derive the spectral reflectance of the object.例文帳に追加

また同一撮影照明にて対象物と分光反射率が明らかな複数の反射物体を含むカラーパターンを撮影し、主成分分析を利用することで撮影照明の分光放射輝度を求め、対象物の分光反射率を導出する。 - 特許庁

Acquired OCT raw signals are provided for a data processing and determiner 50 to perform profile computation processing in the depth direction of reflectance (S1), profile analysis processing in the depth direction of reflectance (S2), and determination processing (S3) as data processing and determination processing.例文帳に追加

得られたＯＣＴ生信号は、データ処理および判定部５０へ与えられて、データ処理および判定処理として、「反射率の深さ方向のプロファイル算出処理」（Ｓ１）、「反射率の深さ方向プロファイル解析処理」（Ｓ２）および「判定処理」（Ｓ３）が行われる。 - 特許庁

To prevent decline of a reflectance or a transmittance in an optical system, and to prevent decline of analysis sensitivity, caused by adhesion of various substances in exhaust gas in a semiconductor manufacturing process onto a reflecting mirror or a window in a cell of a moisture meter.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける排気ガス中の様々な物質が、水分計のセル中の反射鏡や窓に付着し、光学系における反射率や透過率を低下させ、分析感度が低下することを防止する。 - 特許庁

Optical characteristics of a scattering body taken into account wave motion of light is calculated (a first step) by electromagnetic field analysis; ray tracing is performed by using the estimated optical characteristics; and the light reflectance of the coating film is calculated (a second step), based on the result of the ray tracing.例文帳に追加

電磁場解析により光の波動を考慮した散乱体の光学特性を算出し（第１ステップ）、その推定した光学特性を用いて光線追跡を行い、光線追跡の結果に基づいて塗膜の光反射率を算出する（第２ステップ）。 - 特許庁