argon matrixとは 意味・読み方・使い方

In this example, reactive chemical species are made of fluorocarbon or other fluorine-contained gases as trace constituents added to hose argon matrix by rare gas plasma.例文帳に追加

この例では、これら反応性化学種は、希ガスプラズマによって、ホースアルゴンマトリックスに添加された微量成分としてのフルオロカーボン又は他のフッ素含有ガスから作られる。 - 特許庁

The etching residue can be suppressed and the taper angle can be controlled by a plasma-etching a wiring formed on an active matrix substrate and having the titanium film, the aluminum film and the titanium nitride film using a gas formed by mixing argon gas with chlorine gas in the ratio of the partial pressure of the argon gas to the mixed gas formed by mixing argon gas with chlorine gas of 10/100 to 60/100.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板に形成された、チタン膜、アルミニウム膜及び窒化チタン膜を有する配線を塩素ガスにアルゴンガスを混合したガスを用い、アルゴンガスの分圧と、アルゴンガスに塩素ガスを混合した混合ガスの割合が、１０／１００以上６０／１００以下でプラズマエッチングを行なうことにより、エッチング残渣を抑制しテーパ角を制御することができる。 - 特許庁

While causing an argon gas to flow to a matrix metal test specimen 10 molten metal of a magnesium base metal (including alloy), the material, in which a surface of a ZrO particle is plated, is gradually added for a few minutes through a glass funnel.例文帳に追加

マグネシウム地金（合金を含む）の基地金属試料１０溶湯にアルゴンガス４を流しながらガラス製ロート６を通じてＺｒＯ_2 粒子の表面をメッキした材料を少しづつ、数分間に亘り添加する。 - 特許庁

The composite material thin film is constituted by dispersing crystalline hydroxyapatite in a titanium oxide matrix and manufactured by forming a precursor thin film of a composite material, wherein hydroxyapatite is dispersed in the titanium oxide matrix, by simultaneously sputtering titanium oxide and hydroxyapatite in an argon atmosphere of 1-100 mTorr and further annealing the precursor thin film at 400-1,000°C to form crystalline hydroxyapatite in the titanium oxide matrix.例文帳に追加

酸化チタンマトリックス中に結晶性ハイドロキシアパタイトが分散した複合材料薄膜、及び酸化チタンとハイドロキシアパタイトを１〜１００ｍＴｏｒｒのアルゴン雰囲気中で同時スパッタリングして、酸化チタンマトリックス中にハイドロキシアパタイトが分散する複合材料の前駆体薄膜を形成し、さらにこの前駆体薄膜を４００〜１０００°Ｃでアニールし、酸化チタンマトリックス中に結晶性ハイドロキシアパタイトを形成する酸化チタンマトリックス中にハイドロキシアパタイトが分散した複合材料薄膜の製造方法。 - 特許庁

The silica-titania complex oxide having dispersion of rutile titania microcrystals in an amorphous matrix is obtained by hydrolyzing a silicon alkoxide such as silicon tetramethoxide or silicon tetraethoxide and a titanium alkoxide such as titanium tetraethoxide, or titanium tetraisopropoxide, heating the co-hydrolyzed product at 900 to 1,300°C in an inert atmosphere such as nitrogen or argon to produce the complex oxide to crystallize the microcrystals of rutile titania in the complex oxide.例文帳に追加

シリコンテトラメトキシド、シリコンテトラエトキシド等のシリコンアルコキシド化合物と、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド等のチタニウムアルコキシド化合物とを加水分解して得られる共加水分解物を、窒素下、アルゴン下等の非酸化性雰囲気下で、９００〜１３００℃で加熱して複合酸化物とすることにより、この複合酸化物中にルチル型チタニアの微結晶が析出し、該微結晶が非晶質マトリックス中に分散されたシリカ−チタニア複合酸化物が得られる。 - 特許庁