beam showerとは 意味・読み方・使い方

This operation places the electron microscope into a beam shower mode.例文帳に追加

この動作によって、透過電子顕微鏡はビームシャワーモードとなる。 - 特許庁

A plasma shower for beam space charge neutralization is provided in an AEF chamber.例文帳に追加

ＡＥＦチャンバーにビーム空間電荷中和用のプラズマシャワーを設ける。 - 特許庁

A mouse 47 is used to move a pointer 52 to the location of a beam shower button S and the mouse is clicked.例文帳に追加

ここで、マウス４７によってポインター５２をビームシャワーボタンＳの位置に移動させ、マウスをクリックする。 - 特許庁

To provide an ion injection method for extracting electrons from a plasma shower without an influence of the change of the ion beam diameter.例文帳に追加

プラズマシャワーからの電子引出しがイオンビーム径変化の影響を受けずに済むようなイオン注入方法を提供する。 - 特許庁

The ion injection method enables an ion beam 52 to go through a plasma shower at the transportation area in front of a wafer 55 when the ion beam 52 extracted from an ion source is transported and injected to the wafer 55, and a plasma shower consisting of an arc chamber 10 and a shower tube 11 is placed near a resolving aperture body 54 at the downstream.例文帳に追加

イオン源から引き出されたイオンビーム５２を輸送してウエハ５５に注入するに際し、該イオンビームをウエハの手前の輸送区間においてプラズマシャワーを経由させるようにしたイオン注入方法であり、アークチャンバー１０とシャワーチューブ１１とによるプラズマシャワーをリゾルビングアパチャー体５４の下流側の直近位置に配置した。 - 特許庁

To provide an electron microscope allowing anyone to easily set a beam shower mode with optimum conditions and return each parameter to an original analysis mode or observation mode correctly in a short time after a beam shower operation finishes.例文帳に追加

ビームシャワーモードの設定を誰もが最適な条件で簡単に行なうことができ、また、ビームシャワー動作が終了した後には、電子顕微鏡の各パラメータを元の分析や観察のモードに短時間に正確に戻すことができる電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁

The ion beam machining system, where the focused ion beam 2 is radiated onto the semiconductor device 9 to be machined in its predetermined region, while preventing charge-up with the electron shower 19 supplied from an electron shower gun 20 comprises a controllable power supply 21 for applying a bias to the sample stage 10 and an ammeter 22 for detecting the sample current, without being affected by the electron shower 19.例文帳に追加

集束されたイオンビーム２を半導体装置９上に照射し、電子シャワー銃２０から供給される電子シャワー１９によりチャージアップを防止しつつ、所定の領域を加工するイオンビーム加工装置において、調整電源２１により試料ステージ１０にバイアス印加を行い、電子シャワー１９による影響を受けずに電流計２２で試料電流を検出する。 - 特許庁