chromium silicideとは 意味・読み方・使い方

The base substrate 21 comprises silicon nitride as a principal component, rare earth component in an amount of 4 to 25% by mass, calculated as an oxide equivalent, chromium component in an amount of 1 to 8% by mass, calculated as a chromium silicide equivalent and aluminum component in an amount of 0.02 to 1.0% by mass, calculated as a nitride aluminum equivalent.例文帳に追加

基体２１は、窒化珪素を主成分としており、希土類成分を酸化物換算で４〜２５質量％、クロムの珪化物をクロムシリサイド換算で１〜８質量％含有するとともに、アルミニウム成分を窒化アルミニウム換算で０．０２〜１．０質量％含有している。 - 特許庁

The method for regenerating the pattern of a photomask, for regenerating a pattern 2 formed by using chromium or molybdenum silicide on the substrate 1 of a photomask 10, includes an exposure step of exposing the pattern 2 to an argon fluoride laser beam 3.例文帳に追加

フォトマスク１０の基板１上にクロム又はモリブデンシリサイドを用いて形成されたパターン２を再生するためのフォトマスクのパターン再生方法は、パターン２にフッ化アルゴンレーザ３を露光する露光工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A soln., in which a hard material such as diamond, cubic boron nitride, boron carbide, silicon carbide and silicon nitride or the carbide, nitride, boride, silicide or the like of titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium and molybdenum, and a hard material of metallic carbonyl such as iron pentacarbonyl are suspended, is heated and decomosed, and a metallic layer is formed on the surface of the hard material.例文帳に追加

ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、或はチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、及びモリブデンの炭化物、窒化物、ホウ化物、ケイ化物等の硬質物質を、鉄ペンタカルボニル等の金属カルボニルの硬質物質が懸濁した液を加熱分解し、硬質物質の表面に金属層を生成させる。 - 特許庁