diamond chemical vapor depositionとは 意味・読み方・使い方

To perform diamond coating controlled in film quality to a relatively thin film on a rugged surface of an industrial cutting tool by a hot filament CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

熱フィラメントＤＶＤ法より工業用刃物に凹凸面の比較的薄膜に膜質制御されたダイヤモンドコーティングを行うこと。 - 特許庁

A protective layer is formed on one surface of a diamond film layer for reducing the deformation of the diamond film layer in the process of forming the diamond film layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法によってダイヤモンド・フィルム層を形成する工程で、ダイヤモンド・フィルム層の変形を低減するために、保護層がダイヤモンド・フィルム層の1つの表面上に形成される。 - 特許庁

Thereafter, an updoped diamond layer 4 and a boron-doped diamond layer 5 are formed by a CVD (chemical vapor deposition) method, and an electrode 6 is formed on the boron-doped diamond layer 5.例文帳に追加

その後、ＣＶＤ法によりアンドープダイヤモンド層４及びボロンドープダイヤモンド層５を形成し、このボロンドープダイヤモンド層５の上に電極６を形成する。 - 特許庁

The highly oriented diamond film in which the crystal orientation exists is formed by a chemical vapor deposition method adopting a deposition condition such that the (001) plane of the diamond crystal grains is selectively left to the substrate 1.例文帳に追加

基板１に対してダイヤモンド結晶粒の（００１）面を選択的に残す成長条件の化学気相成長法により結晶方位が配向した高配向性ダイヤモンド膜を形成する。 - 特許庁

The diamond film-deposited silicon is manufactured by forming the silicon substrate having ≤500 μm thickness by the plate-like crystal growth method and depositing the conductive diamond on the silicon substrate by the chemical vapor deposition method.例文帳に追加

板状結晶成長法により厚さが５００μｍ以下のシリコン基材を製造し、このシリコン基材をケミカルベーパーデポジションにより導電性ダイヤモンドで成膜することにより、ダイヤモンド成膜シリコンを製造する。 - 特許庁

This electron emitter material is formed by adsorbing diamond powder to a surface of carbon foam, and thereafter growing diamond on the carbon foam by a chemical vapor deposition (CVD) treatment.例文帳に追加

炭素発泡体の表面にダイヤモンド粉末を吸着させた後、化学気相蒸着（ＣＶＤ）処理により前記炭素発泡体上にダイヤモンドを成長させた電子エミッタ材料。 - 特許庁

After forming a diamond nuclei on one surface of a silicon substrate, a diamond film 4 is formed as an electron beam transmission film on one surface of a silicon substrate by the chemical vapor deposition method.例文帳に追加

シリコン基板の一方の面上にダイヤモンド核を形成した後、化学気相成長法によりこのシリコン基板の一方の面上に、電子線透過膜としてダイヤモンド膜４を形成する。 - 特許庁

The single crystal diamond [111] substrate has a step terrace structure on a surface or a deposited diamond film on a surface of the substrate by a chemical vapor deposition.例文帳に追加

表面にステップテラス構造を有する単結晶ダイヤモンド｛１１１｝基板あるいは基板表面上に、化学気相成長法による堆積ダイヤモンド膜を有する単結晶ダイヤモンド｛１１１｝基板である。 - 特許庁