double-integration methodとは 意味・読み方・使い方

SEMICONDUCTOR STRUCTURE CONTAINING DOUBLE METAL GATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME (SELF-ALIGNMENT INTEGRATION OF DOUBLE METAL GATE)例文帳に追加

二重金属ゲートを含む半導体構造及びその製造方法（二重金属ゲートの自己整合集積化） - 特許庁

To provide a method for assembling a double row tapered roller bearing, capable of surely retaining an integrated state of a plurality of inner rings while facilitating the integration thereof and the release of the integration.例文帳に追加

複数の内輪の一体化および一体化の解除が容易であると共に、上記一体化の状態を確実に保持できる複列円錐ころ軸受の組立方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of multiplayer interconnection boards includes a process of heating and pressurizing a laminate for integration, while a plurality of double-sided wiring boards 10, where a wiring pattern 12 is formed on both the surface of an insulating layer 11 are being laminated via a prepreg 1 where a thermosetting resin, is immersed to a resin porous film.例文帳に追加

絶縁層１１の両面に配線パターン１２が形成された複数の両面配線基板１０を、樹脂多孔質膜に熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグ１を介して積層した状態で、その積層物を加熱加圧して一体化させる工程を含む多層配線基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a flash EEPROM cell and its manufacturing method, in which the degree of integration, data retaining characteristics and disturb characteristics can be enhanced utilizing partially overlapped electrically isolated double floating gates, and the efficiency of program can be enhanced by decreasing the time required for electron injection.例文帳に追加

一部分が重畳され電気的に分離された二重フローティングゲートを利用し、集積度を向上させ、データ保持特性及びディスターブ特性を改善させ、電子注入時に所要される時間を減らしてプログラムの効率を高めることができるフラッシュＥＥＰＲＯＭセル及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁