dry sand layerとは 意味・読み方・使い方

When the substrate is subjected to a sand blast treatment on the substrate, it has a masking layer of a dry film resist the moisture content rate of which is 4% or more, or the surface resistant rate of which is 10 GΩ/ square or less.例文帳に追加

基板に対してサンドブラスト加工を行なう際の基板は、含水率が４重量％以上、あるいは、表面抵抗率が１０ＧΩ／□以下のドライフィルムレジストのマスク層を有する。 - 特許庁

As a sticking method for the ethylene/α- olefin copolymer layer 3 formed by using the single-site catalyst, a dry lamination method or a sand lamination method for a film manufactured by the extrusion lamination method, the T-die method, the inflation method of the like is used.例文帳に追加

シングルサイト触媒を用いて得られるエチレン−αオレフィン共重合体層３の貼合方法としては、押出しラミネーション法、Ｔダイ法、あるいは、インフレーション法によりフィルムとしたものをドライラミネーション又はサンドラミネーションする方法等が挙げられる。 - 特許庁

In the shoes respectively consisting of a sole and an upper, material which is evaluated to be at the third grade or higher than this about a dirtiness degree by a gray scale in a test of dirtiness with dry and solid soil using soil and sand in a loamy layer of the Kanto district is used at least as a part of the upper.例文帳に追加

ソールとアッパーとからなるシューズにおいて、関東ローム層土砂による乾式固体土汚れ試験においてグレースケールによる汚れ度合の評価が３級以上である材料をアッパーの少なくとも一部に用いたことを特徴とするシューズ。 - 特許庁

When a connection hole 20 corresponding to a part of the wiring layer 14 is formed in the interlayer insulating film by dry etching using a resist layer as a mask, etching is applied up to the insulating film 16b wherein sand etching tends to progress under a condition with high deposition containing no N_2, and the insulating film 16a is etched thereafter under a condition with low deposition containing N_2.例文帳に追加

レジスト層１８をマスクとするドライエッチング処理により配線層１４の一部に対応する接続孔２０を層間絶縁膜に形成する際に、サイドエッチが進行しやすい絶縁膜１６ｂまではＮ_２を含まないデポジション性の強い条件でエッチングを行い、その後はＮ_２を含むデポジション性の弱いい条件で絶縁膜１６ａのエッチングを行なう。 - 特許庁