dry voidとは 意味・読み方・使い方

The cable structure substantially has no void and realizes a dry cable having the water permeation prevention function.例文帳に追加

本発明のケーブル構造は、本質的に空隙がなく、水浸透を阻止する機能を持つ乾式ケーブルを実現する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a tape carrier for a semiconductor device and a laminating method capable of laminating film materials such as a dry film resist in a void-free mannar in a normal pressure state.例文帳に追加

ドライフィルムレジストなどのフィルム材を、常圧状態で、ボイドレスにラミネート可能な半導体装置用テープキャリアの製造方法及びラミネート方法を提供する。 - 特許庁

A dry film resist 6 is laminated to a copper-clad laminate board where a copper foil 2 is pasted to a substrate 1, which is heated while moisture is absorbed so that a minute void 11 between the copper-clad laminate and the dry film resist 6 is reduced, and a copper wiring pattern 10 is formed after exposure and development.例文帳に追加

基板１に銅箔２を貼り付けた銅張り積層板にドライフィルムレジスト６をラミネートし、これを加熱、吸湿させ、銅張り積層板とドライフィルムレジスト６との間に発生した微少な空隙１１を減少させ、さらに露光、現像して銅配線パターン１０を形成する高密度プリント配線基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method where dry etching is performed using gas containing fluorine, and the formation of a damaged layer on the side wall of a wiring groove and the formation of a void in a Low-k film can be inhibited.例文帳に追加

フッ素含有ガスを用いてドライエッチングを行うとともに、配線溝側壁部でのダメージ層の形成およびＬｏｗ−ｋ膜中でのボイドの形成を抑制することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a void between electrodes without degrading electric characteristic and to suppress reamining dry-etching in a high aspect part between the electrodes by flattening, in a step for forming the electrode protection film of a semiconductor device provided with a high step metal electrode on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に高段差メタル電極を有する半導体素子の電極保護膜形成工程において、電気特性を劣化させることなく、電極間のボイドを抑制し、平坦化により電極間の高アスペクト部でのドライエッチング残りを抑制することを可能にする。 - 特許庁