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duvとは 意味・読み方・使い方
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「duv」を含む例文一覧
該当件数 : 72件
ILLUMINATING DEVICE FOR DUV MICROSCOPE例文帳に追加
DUV顕微鏡用の照明装置 - 特許庁
DUV LIGHT SOURCE DEVICE AND LASER MACHINING APPARATUS例文帳に追加
DUV光源装置及びレーザ加工装置 - 特許庁
To constitute an illuminating device for a DUV microscope so that it can supply a DUV wavelength band having the maximum transmittance and a small half value width.例文帳に追加
DUV顕微鏡用の照明装置が、最大の透過率と小さい半値幅を有するDUV波長バンドを供給するように構成すること。 - 特許庁
SPATIAL LIGHT MODULATOR AS SOURCE MODULE TO DUV WAVEFRONT SENSOR例文帳に追加
DUV波面センサに対するソースモジュールとしての空間光変調器 - 特許庁
DUV SCANNER FOR CONTROLLING LINEWIDTH BY MASK ERROR FACTOR COMPENSATION例文帳に追加
マスクエラー係数補償によりライン幅をコントロールするDUVスキャナ - 特許庁
A DUV objective lens for the DUV microscope (1) can be very satisfactorily corrected by the attained very narrow half value width of the DUV wavelength band.例文帳に追加
達成された非常に小さなDUV波長バンドの半値幅によって、DUV顕微鏡(1)のDUV対物レンズを非常に良好に補正することができる。 - 特許庁
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「duv」を含む例文一覧
該当件数 : 72件
OBJECTIVE LENS FOR PARFOCAL IR FOCUS TYPE MICROSCOPE CAPABLE OF BEING USED FOR DUV例文帳に追加
DUVに使用可能な同焦点IRフォーカス形顕微鏡対物レンズ - 特許庁
The telescope 205 is especially useful for far ultraviolet rays (DUV) by wave length being shorter than about 250 nm.例文帳に追加
テレスコープ205は、約250nmよりも短い波長で遠紫外(DUV)用途に関して特に有用である。 - 特許庁
To provide a high electric power gas discharge laser system for a DUV light source.例文帳に追加
DUV光源のための高電力ガス放電レーザシステムを提供する。 - 特許庁
The plastic sealing portion may be resistant to degradation through exposure to DUV radiation.例文帳に追加
塑性被覆部は、DUV放射への曝露による崩壊に対する耐性があってもよい。 - 特許庁
To protect at least a part of the surface of a lithographic apparatus from the effect of DUV radiation.例文帳に追加
リソグラフィ装置の表面の少なくとも一部をDUV放射の効果から保護することである。 - 特許庁
To provide synthetic quartz glass having excellent resistance to high density DUV radiation of excimer laser and excellent engineering uniformity.例文帳に追加
エキシマレーザーの高密度DUV光に対する耐性および工学的均一性に優れた合成石英ガラスを提供する。 - 特許庁
To provide a polymer for resist generating little line edge roughness and forming little defect in DUV excimer laser lithography, etc.例文帳に追加
DUVエキシマレーザーリソグラフィー等において、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。 - 特許庁
In yet another integrated circuit fabrication process, a multilayer amorphous carbon anti-reflective coating is used for DUV lithography.例文帳に追加
さらに別の集積回路製造工程では、多層アモルファスカーボン反射防止膜がDUVリソグラフィのために用いられる。 - 特許庁
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