etching characteristicとは 意味・読み方・使い方

To provide a dry etching method and a dry etching apparatus that can achieve an excellent etching characteristic with reducing the cost of facilities.例文帳に追加

設備コストを低減しつつ、良好なエッチング特性を得ることができるドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching system that can realize a uniform etching characteristic having no difference between the central part and edge part of a wafer.例文帳に追加

ウェーハのセンタ部とエッジ部とでエッチング特性の差のない均一なエッチング特性を実現する。 - 特許庁

To attain the optimum electric characteristic where a difficulty of selective wet etching and an etching damage can be removed.例文帳に追加

選択的なウェットエッチングの難しさ及びエッチングダメージが除去できて最適の電気的特性を得ること。 - 特許庁

TEST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING CHARACTERISTIC MEASURING METHOD, AND CIRCUIT USING SAME例文帳に追加

テストパターン形成方法、それを用いたエッチング特性測定方法及び回路 - 特許庁

Such a characteristic configuration can be achieved by setting the abrasive to be an etching liquid.例文帳に追加

この特徴ある構成は、研磨剤がエッチング液からなるところにある。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR ELECTRODE HAVING HOMOGENEOUS ETCHING CHARACTERISTIC例文帳に追加

均質エッチング性を有する電解コンデンサ電極用アルミニウム箔の製造方法 - 特許庁

To provide etching equipment of high reliability wherein a uniform etching characteristic can be obtained over the diameter of a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の直径にわたって均一なエッチング特性が得られる信頼性の高いエッチング装置を提供する。 - 特許庁

This characteristic constitution includes a first etching process 13a wherein acid etching is performed in the etching process and a second etching process 13b wherein alkaline etching is performed after the first etching process, and includes a back light polishing process 14 for polishing the uneven part of the back of the wafer which is formed by the first etching process, between the first etching process and the second etching process.例文帳に追加

この特徴ある構成は、エッチング工程が酸エッチングする第１エッチング工程１３ａとこの第１エッチング工程の後にアルカリエッチングする第２エッチング工程１３ｂとを含み、第１エッチング工程と第２エッチング工程との間に第１エッチング工程で形成されたウェーハ裏面の凹凸の一部を研磨する裏面軽研磨工程１４を含む。 - 特許庁