etching conditionsとは 意味・読み方・使い方

To provide an etching treatment device capable of treating a sample having different etching areas under optimum etching conditions.例文帳に追加

エッチング面積の異なる試料に対して、最適なエッチング条件で処理を施すことのできるエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma etching system by which the time and labor for the acquisition of data on etching conditions can be reduced.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置において、エッチング条件のデータ採取の時間と労力を削減する。 - 特許庁

For instance, a method, by which the type of the etching gas conforming to the dry-etching conditions is selected, is employed as a method for having the dry-etching rate of the plug 10 and the dry-etching rate of the etching stopper film 11 approximately equal to each other.例文帳に追加

前記プラグ１０とエッチストッパ膜１１とのドライエッチングレートをほぼ同一にする手法として、たとえばドライエッチングの条件に適合するエッチングガスの種類を選択する手法を用いる。 - 特許庁

To provide an etchant, by which etching residue is not generated at all and etching is conducted under mild conditions, when wet etching a transparent conductive film.例文帳に追加

透明導電膜のウエットエッチングの際に、エッチング残渣を全く発生せず、且つ温和な条件下で、エッチングが行えるエッチング剤を提供する。 - 特許庁

As etching conditions, an etching rate of the upper electrode 3 is larger than that of the insulating film 2.例文帳に追加

次に、エッチング条件として、絶縁膜２より上部電極３のエッチレートが大きい条件を選択する。 - 特許庁

To provide an etching agent that can prevent the generation of etching residues completely, and at the same time carry out etching under mild conditions when a transparent conductive film is to be etched.例文帳に追加

透明導電膜をエッチングする際に、エッチング残渣を全く発生せず、且つ、穏和な条件下で、エッチングが行えるエッチング剤を提供することにある。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus capable of readily performing etching, whose sectional form is vertical and whose in-plane uniformity is superior, even under various etching conditions.例文帳に追加

多種のエッチング条件下においても、断面形状が垂直で面内均一性の良いエッチングを容易に行なうことができる、ドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

Under the aforementioned etching conditions, an etching-resistant deposit is formed except for the region near the spacer projection 2.例文帳に追加

このようなエッチング条件であると、スペーサ突起２に近接した個所を除いて、耐エッチング性の堆積物５が形成される。 - 特許庁