エッチング条件の英語

エッチングプロセスの条件出し方法および制御方法例文帳に追加

METHOD OF SETTING ETCHING PROCESS CONDITIONS, AND CONTROL METHOD - 特許庁

エッチング速度、エッチング深さ、および、エッチング表面平滑度などのエッチング条件の制御をエッチング反応過程においてその場で行うことを容易とし、より高度な湿式化学エッチングを可能とする。例文帳に追加

To facilitate the execution of the control of etching conditions such as an etching rate, etching depth and an etching surface smoothening degree in an etching reaction stage on the spot and to enable wet chemical etching of a higher degree. - 特許庁

シリコンチッカ膜３、酸化膜２は同一エッチング条件にて開口エッチングとオーバーエッチングを行い、オーバーエッチングは、対シリコンと高選択比となるエッチング条件で行う。例文帳に追加

The silicon nitride film 3 and the oxide film 2 are subjected to open-etching and over-etching under the same etching condition, and the over-etching step is carried out under a condition with a high selective ratio to silicon. - 特許庁

その終点検出後に、エッチング条件を切り換えて、下層３４Ｂをエッチングする。例文帳に追加

After the detection of the end point, etching conditions are changed and the lower layer 34B is etched thereafter. - 特許庁

立体形状測定装置、エッチング条件出し方法およびエッチングプロセス監視方法例文帳に追加

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE, ETCHING CONDITION DETERMINATION METHOD, AND ETCHING PROCESS MONITORING METHOD - 特許庁

エッチング面積の異なる試料に対して、最適なエッチング条件で処理を施すことのできるエッチング処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an etching treatment device capable of treating a sample having different etching areas under optimum etching conditions. - 特許庁

非晶質ＩＴＯ膜を、温和な条件下で、エッチング残渣を全く発生せずにエッチングが行えるエッチング剤を提供することにある。例文帳に追加

To provide an etching agent enabling an amorphous ITO film to be etched under a mild condition without causing etching residue at all. - 特許庁

まず、レジスト３０をマスクとして、第１のエッチング条件でキャップ膜２０を途中までエッチングする（第１のエッチング工程）。例文帳に追加

First, a resist 30 is used as a mask, and the cap film 20 is etched to partway under first etching condition (first etching step). - 特許庁