etching damageとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for reducing wafer damage during an etching process.例文帳に追加

エッチングプロセス中にウェーハの損傷を低減する方法を開示する。 - 特許庁

To form an ohmic electrode by repairing damage by etching.例文帳に追加

エッチング処理によるダメージを修復してオーミック電極を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a graphene film which has a short etching time, and suppresses damage at the time of etching.例文帳に追加

エッチング時間が短く、エッチング時の損傷を抑制したグラフェン膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Since etching is finished in a short time, the body substrate E is protected against damage due to etching liquid.例文帳に追加

短時間でエッチングが終了するため本体基板Ｅのエッチング液による損傷が防止される。 - 特許庁

To provide a dry etching device, a dry etching method and a plasma controller such that etching processing can be performed in an optimum plasma state wherein etching damage to an etching mask as well as a material to be etched is taken into consideration.例文帳に追加

被エッチング材料に加えてエッチングマスクのエッチングダメージを考慮した最適なプラズマ状態でエッチング処理ができるドライエッチング装置、ドライエッチング方法およびプラズマ制御装置を提供する。 - 特許庁

To attain the optimum electric characteristic where a difficulty of selective wet etching and an etching damage can be removed.例文帳に追加

選択的なウェットエッチングの難しさ及びエッチングダメージが除去できて最適の電気的特性を得ること。 - 特許庁

To improve a condensing rate, and to prevent the formation of an etching damage layer.例文帳に追加

集光率を向上できると共に、エッチングダメージ層の形成を防止する。 - 特許庁

To subject a wiring layer surely to an etching process protecting its rear surface against damage.例文帳に追加

配線層の裏面を確実に保護しつつ、配線層のエッチング加工を行う。 - 特許庁