excimer uvとは 意味・読み方・使い方

To provide a chemically amplified resist composition useful in microfabrication using far UV such as KrF or ArF excimer laser or vacuum UV such as F_2 excimer laser.例文帳に追加

ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線やＦ_２エキシマレーザー等の真空紫外線を用いる、微細加工に有用な化学増幅型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

EXCIMER OR MOLECULAR FLUORINE LASER AND DEVICE INTENDED FOR UV PRE-IONIZATION OF ACTIVE VOLUME OF ELECTRIC DISCHARGE REPETITIVELY PULSED GAS LASER例文帳に追加

エキシマーまたはフッ素分子レーザー及び自動ＵＶ予備電離放電形繰り返しパルスガスレーザー装置 - 特許庁

The vacuum UV light from an excimer lamp 1 transmits a quartz window 3a transparent to the vacuum UV light and arrives at a mask 5 through a cavity part A.例文帳に追加

エキシマランプ１からの真空紫外光は、真空紫外光に対して透明な石英窓３ａを透過し、空洞部Ａを通過してマスク５に達する。 - 特許庁

The illumination of the excimer UV lamp is lowered by using for a long time, and when coming to the minimum illumination (illumination limit N) necessary for a processing of a substrate, the power to be supplied to the excimer UV lamp is again increased.例文帳に追加

長時間の使用により，エキシマＵＶランプの照度が低下し，基板の処理に必要な最低限の照度（照度限界Ｎ）になった時に，再びエキシマＵＶランプへの供給電力を増大させる。 - 特許庁

The irradiating amount with excimer UV ray for both end sections of a conductive elastic layer is made to be greater than the irradiating amount in sections other than both ends in a step of irradiating a surface of the conductive elastic layer with the excimer UV ray.例文帳に追加

導電性弾性層の表面にエキシマＵＶ光を照射する工程で、導電性弾性層の両端部に対するエキシマＵＶ光の照射量を、両端部以外の照射量に比べ多くすることを特徴とする。 - 特許庁

The ultraviolet rays irradiation apparatus has an excimer lamp and a UV monitor, input power is feedback-controlled so that vacuum UV detected by the UV monitor is kept constant, and is characterized in that a UV sensor for calibration has been set.例文帳に追加

紫外線照射装置は、エキシマランプと、紫外線モニタとを備えてなり、紫外線モニタによって検出される真空紫外線が一定となるよう、入力電力がフィードバック制御されるものであって、較正用紫外線センサが設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide quartz glass for UV rays and a method for manufacturing the glass showing little decrease in the transmittance by irradiation of UV excimer laser light and little fluctuation in the refractive index with positions.例文帳に追加

紫外線エキシマレーザ光照射による透過率の低下が小さく、かつ屈折率の場所による変動の小さい紫外線用石英ガラスおよびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having a high resolution and a high radiation transmittance as a chemically amplified resist sensitive to an actinic radiation such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, F_2 excimer laser or far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation).例文帳に追加

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2 エキシマレーザーあるいはEUVに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、高解像度で、放射線透過率が高い感放射性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁