field calibrationとは 意味・読み方・使い方

To provide a system and a method for field calibration of a flowmeter.例文帳に追加

流量計の現場較正用のシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

REFERENCE WAFER FOR CALIBRATION OF DARK FIELD INSPECTION SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, METHOD OF CALIBRATION OF DARK FIELD INSPECTION SYSTEM, THE DARK FIELD INSPECTION SYSTEM, AND WAFER INSPECTION METHOD例文帳に追加

暗視野検査装置校正用基準ウエハ、暗視野検査装置校正用基準ウエハの製造方法、暗視野検査装置の校正方法、暗視野検査装置およびウエハ検査方法 - 特許庁

CALIBRATION METHOD FOR NEAR FIELD SCANNING OPTICAL MICROSCOPE LASER PROCESSING DEVICE AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

ニアフィールド走査光学顕微鏡レーザ加工装置の較正方法および装置 - 特許庁

Then when the received electric field intensity is ≤40 dB and the calibration data are effective, calibration is carried out (S106).例文帳に追加

そして、受信電界強度が４０ｄＢ以下でありかつキャリブレーションデータが有効であれば、キャリブレーションを実行する（Ｓ１０６）。 - 特許庁

To provide a three-dimensional field for calibration capable of photographing working and calibration working of a calibration body using the calibration body in a comparatively narrow space even in the case of a zoom lens of which a focal distance is variable.例文帳に追加

焦点距離が可変であるズームレンズの場合でも、比較的狭い空間でキャリブレーション体を用いたキャリブレーション体の撮影作業やキャリブレーション作業が可能な校正用三次元フィールドを提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional field for calibration, capable of photographing work and calibration work of a calibration body using the calibration body in a comparatively narrow space even in the case of a zoom lens of which a focal distance is variable.例文帳に追加

焦点距離が可変であるズームレンズの場合でも、比較的狭い空間でキャリブレーション体を用いたキャリブレーション体の撮影作業やキャリブレーション作業が可能な校正用三次元フィールドを提供する。 - 特許庁

A plurality of calibration reference marks 77 are photographed within a camera visual field 26G of a CCD camera.例文帳に追加

ＣＣＤカメラのカメラ視野２６Ｇ内に複数の校正基準用マーク７７を撮影する。 - 特許庁

A method for deciding exposure setting for a target field on a substrate in a lithography exposure process includes to provide calibration data by deciding a location of a calibration field in a first direction in a plurality of calibration locations in a second direction and a third direction in relation to the calibration field.例文帳に追加

発明は、リソグラフィ露光プロセスにおける基板上のターゲットフィールドのための露光設定を決定するための方法であって、キャリブレーションフィールドの位置に対する第２および第３の方向の複数のキャリブレーション位置における第１の方向のキャリブレーションフィールドの位置を決定することによってキャリブレーションデータを提供することを含む方法に関する。 - 特許庁