formation constantとは 意味・読み方・使い方

FORMATION METHOD FOR LOW DIELECTRIC CONSTANT INSULATING FILM, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

低誘電率絶縁膜の形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To obtain a constant-gradation output image by applying gradation formation to an X-ray image.例文帳に追加

Ｘ線画像を階調変換して一定階調の出力画像を得る。 - 特許庁

To provide a coating formation device capable of maintaining the mixing ratio between a coating formation material and a coating formation medium constant.例文帳に追加

皮膜形成材料と皮膜形成媒体の混合比を一定に維持することが可能な皮膜形成装置を提供する。 - 特許庁

As the formation material of the above substrate, it is desirable that it is a material about larger lattice constant than the lattice constant of the above oxide.例文帳に追加

前記基板の形成材料としては、前記酸化物の格子定数よりも大きい格子定数を有する材料であることが好ましい。 - 特許庁

The oxygen limits the formation of -Si-H and -Si-OH groups in the low dielectric constant material, thereby reducing the occurrence of moisture absorption and oxidation in the low dielectric constant material.例文帳に追加

酸素は、低誘電率材料中の-Si-H基及び-Si-OH基の形成を制限し、それにより、低誘電率材料中の吸湿及び酸化が減少する。 - 特許庁

To prevent deterioration of film quality of an insulating film of low dielectric constant, in formation of a buried wiring, in which an insulating film of low dielectric constant is used as an inter-layer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜に低誘電率の絶縁膜を用いた埋め込み配線の形成において、低誘電率の絶縁膜の膜質劣化を防止する。 - 特許庁

COATING LIQUID FOR SILICA-BASED FILM FORMATION, METHOD FOR FORMING SILICA-BASED FILM HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT AND SILICA-BASED FILM HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT, OBTAINED FROM THE METHOD例文帳に追加

シリカ系被膜形成用塗布液、低誘電率シリカ系被膜の形成方法および該方法から得られる低誘電率シリカ系被膜 - 特許庁

To simplify a thin-film formation process, and to suppress the formation of a film with low dielectric constant by the oxidation of a lower electrode.例文帳に追加

薄膜成膜工程を簡単にして、下部電極が酸化されて低誘電率膜が形成されるのを抑制する。 - 特許庁