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gate structuresとは 意味・読み方・使い方
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「gate structures」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 111件
Sidewall structures are formed for both transistor gate structures.例文帳に追加
側壁構造が、両方のトランジスタ・ゲート構造に形成される。 - 特許庁
A first gate aspect ratio defined by a distance dm between the gate structures 5 and a height h of the gate structures 5 is larger than a second gate aspect ratio defined by a distance dr1 between the gate structures 55 and a height h of the gate structures 55.例文帳に追加
ゲート構造5間の距離dmと、ゲート構造5の高さhとで規定される第1のゲートアスペクト比は、ゲート構造55間の距離dr1と、ゲート構造55の高さhとで規定される第2のゲートアスペクト比よりも大きい。 - 特許庁
The gate electrode 50 includes multiple first gate structures 51 and at least one second gate structure 52.例文帳に追加
ゲート電極50は、複数の第1ゲート構造51と少なくとも1つの第2ゲート構造52とを含む。 - 特許庁
In other cases gate-like structures are used instead of Torii, and those are called 'Hosshinmon gate,' 'Shugyomon gate,' 'Bodaimon gate,' and 'Nehanmon gate' respectively.発音を聞く 例文帳に追加
鳥居の代わりに門を模したものを付加する場合もあるが、これらの門はそれぞれ「発心門」「修行門」「菩提門」「涅槃門」と呼ばれる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
First, gate structures 2 and 3 are formed on a p-type substrate 1.例文帳に追加
まず、p型基板1上に、ゲート構造2,3を形成する。 - 特許庁
The gate structures GT are formed in stripes in plan view.例文帳に追加
また、ゲート構造GTは、平面視において、ストライプ状に形成されている。 - 特許庁
The top surfaces of the semiconductor substrate 101 on both sides of the respective gate structures G1, G2 are turned into silicide with the first and second gate structures masked.例文帳に追加
第一、二のゲート構造G1,G2をマスクした状態で、各ゲート構造G1,G2の両脇における半導体基板101上を、シリサイド化させる。 - 特許庁
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「gate structures」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 111件
Within the next several years, three-dimensional multigate transistor structures will likely replace the current planar single-gate structures.発音を聞く 例文帳に追加
次の数年のうちに、3次元マルチゲート型トランジスタ構造は現行のプレーナ単ゲート構造に多分取って代わるだろう。 - コンピューター用語辞典
To provide two types of gate structures which are suitable, when a part of a gate insulating film is formed of a high dielectric film.例文帳に追加
ゲート絶縁膜の一部を高誘電体膜で構成した場合に好適な2種ゲート構造を提供する。 - 特許庁
The second gate structure 52 is formed so as to bridge the protrusions 51a of adjacent first gate structures 51.例文帳に追加
第2ゲート構造52は、隣り合う第1ゲート構造51の突出部51a間をつなぐように形成される。 - 特許庁
Preferably, the pair of first gate structures are substantially transverse to the second gate structure.例文帳に追加
一対の第1のゲート構造体が、第2のゲート構造体に対して実質的に横断方向にあることが好ましい。 - 特許庁
The photomask 18 is a photomask for defining each end of gate structures 25i-25j in the gate width direction.例文帳に追加
フォトマスク18は、ゲート幅方向に関するゲート構造25i〜25jの各端部を規定するためのフォトマスクである。 - 特許庁
To stabilize the shapes of gate electrodes of an N-channel insulating gate type field effect transistor and a P-channel insulating gate type field effect transistor, of which gate electrode structures are different.例文帳に追加
ゲート電極構造が異なるNch絶縁ゲート型電界効果トランジスタとPch絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート電極形状を安定化させる。 - 特許庁
Then, side walls 7 and 8 are formed on the side faces of the gate structures 2 and 3.例文帳に追加
次に、ゲート構造2,3の両側面に、サイドウォール7,8をそれぞれ形成する。 - 特許庁
Then, sidewalls 8a and 8b are formed on side faces of the respective gate structures 6a and 6b.例文帳に追加
次に、各ゲート構造6a,6bの側面にサイドウォール8a,8bを形成する。 - 特許庁
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